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Dado oficial do INPI

MÉTODO PARA REDUZIR A CONTAMINAÇÃO EM UM PROCESSO PARA PRODUÇÃO DE ESTIRENO, E SISTEMA PARA PRODUÇÃO DE ESTIRENO ATRAVÉS DE DESIDROGENAÇÃO DE ETIL BENZENO

ConcedidaPatente de InvençãoPCT · US2020021325 Documento oficial disponível

Dados do pedido

Número

112021010980

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

06/03/2020

Publicação

08/09/2021

PCT

US2020021325

Carta-patente disponível

Temos o documento oficial completo deste processo, publicado pelo INPI.

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Andamento no INPI

  1. Depósito06/03/20
  2. Publicação08/09/21
  3. Exame
  4. Deferimento28/11/23
  5. Concessão09/01/24
  6. Em vigor06/03/40

Patente concedida em 09/01/2024 e em vigor até 06/03/2040. Até lá, ninguém pode fabricar, usar ou vender a invenção no Brasil sem autorização do titular.

Proteção válida até:06/03/2040

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Última movimentação publicada pelo INPI: 09/01/2024. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

FINA TECHNOLOGY, INC.

US

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Inventores

J. P. (pessoa física)

US

Dados técnicos

Prioridades unionistas

US

62/814,659 · 06/03/2019

Resumo técnico

ADITIVOS PARA REMEDIAR A RETICULAÇÃO DE DIVINIL BENZENO E A FORMAÇÃO DE POLÍMERO INSOLÚVEL NO PROCESSO DE ESTIRENO. A presente invenção refere-se a um método para reduzir a contaminação em um processo para a produção de estireno, em que o método compreende: a introdução de um aditivo em uma corrente que compreende o estireno e o subproduto divinil benzeno (DVB), em que o aditivo compreende: pelo menos um composto químico que compreende um ou mais grupos funcionais selecionados de aminas, álcoois, amino-álcoois, ligações C-C lábeis, ésteres, carbamatos, aldeídos, cetonas, ácidos, acetatos, benzoatos, hidrogênio lábil, e as combinações destes, e tem um ponto de ebulição maior do que ou igual a 170°C e dentro de 10, 20, 30, 40, 50 ou 60°C do ponto de ebulição de divinil benzeno (DVB) (que é de 195°C), em que pelo menos um composto químico é ativo para inibir a reticulação de divinil benzeno (DVB). Também é apresentado um sistema para executar o método.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Concessão da patente

#16.1

Prazo de Validade: 20 (vinte) anos contados a partir de 06/03/2020, observadas as condições legais

09/01/2024

RPI 2766

Deferimento

#9.1

28/11/2023

RPI 2760

Parecer de pré-exame

#6.23

15/08/2023

RPI 2745

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

08/09/2021

RPI 2644

Alteração de dados cadastrais

#1.1

15/06/2021

RPI 2632

Monitoramento de patentes

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