Concessão da patente
#16.1
Prazo de Validade: 20 (vinte) anos contados a partir de 12/06/2019, observadas as condições legais
17/01/2023
RPI 2715
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Dado oficial do INPI
FORMULAÇÕES DE DENTIFRÍCIO TENDO PARTÍCULAS DE SÍLICA ESFÉRICAS COMPATÍVEIS COM COMPOSTOS ESTANOSOS PARA REDUÇÃO DE RDA
ConcedidaPatente de InvençãoPCT · US2019036675
Dados do pedido
Número
112020025019Tipo
Patente de Invenção
Depósito
12/06/2019
Publicação
23/03/2021
PCT
US2019036675 Andamento no INPI
- Depósito12/06/19
- Publicação23/03/21
- Exame
- Deferimento01/11/22
- Concessão17/01/23
- Em vigor12/06/39
Patente concedida em 17/01/2023 e em vigor até 12/06/2039. Até lá, ninguém pode fabricar, usar ou vender a invenção no Brasil sem autorização do titular.
Proteção válida até:12/06/2039
Última movimentação publicada pelo INPI: 17/01/2023. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes e inventores
Depositantes
THE PROCTER & GAMBLE COMPANY
US
Inventores
E. S. (pessoa física)
US
K. G. (pessoa física)
US
L. D. (pessoa física)
US
S. M. (pessoa física)
US
T. N. (pessoa física)
US
W. H. (pessoa física)
US
Dados técnicos
Classificação IPC
Prioridades unionistas
US
62/683,961 · 12/06/2018
Resumo técnico
Trata-se de dentifrício contendo partículas de sílica tendo um tamanho mediano de partícula d50 de 4 a 25 µm, uma área superficial BET menor que 10 m2/g e um volume total de poro de intrusão de mercúrio de 0,2 a 1,5 cm2/g.
Histórico de despachos
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
Deferimento
#9.1
01/11/2022
RPI 2704
28.30
Concedido o trâmite prioritário requerido através da petição nº 870220075957, de 23/08/2022, haja vista que atende ao disposto nos artigos 3º, 4º e 5º da Portaria INPI PR nº 55, de 15/12/21, publicada na RPI 2662, de 11/01/22.
06/09/2022
RPI 2696
28.10.32
Notificação de requerimento de trâmite prioritário de PPH, conforme protocolo nº 870220075957, de 23/08/2022
30/08/2022
RPI 2695
Notificação de entrada na fase nacional - PCT
#1.3
23/03/2021
RPI 2620
Alteração de dados cadastrais
#1.1
22/12/2020
RPI 2607
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