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Dado oficial do INPI

SISTEMA E MÉTODO DE INJEÇÃO DE OXIGÊNIO PARA UM PROCESSO DE REDUÇÃO DIRETA

ConcedidaPatente de InvençãoPCT · US2019023832

Dados do pedido

Número

112020018943

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

25/03/2019

Publicação

29/12/2020

PCT

US2019023832

Andamento no INPI

  1. Depósito25/03/19
  2. Publicação29/12/20
  3. Exame
  4. Deferimento08/07/25
  5. Concessão30/09/25
  6. Em vigor25/03/39

Patente concedida em 30/09/2025 e em vigor até 25/03/2039. Até lá, ninguém pode fabricar, usar ou vender a invenção no Brasil sem autorização do titular.

Proteção válida até:25/03/2039

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Última movimentação publicada pelo INPI: 30/09/2025. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

MIDREX TECHNOLOGIES, INC.

US

Ver toda a carteira desta empresa

Inventores

A. E. (pessoa física)

US

H. M. (pessoa física)

US

Dados técnicos

Classificação IPC

Prioridades unionistas

US

62/648,550 · 27/03/2018

Resumo técnico

Um sistema de injeção de oxigênio para um processo de redução direta, incluindo: um coletor de injeção de gás circunferencial comum adaptado para ser acoplado a uma fonte de oxigênio e uma fonte de gás natural de enriquecimento e adaptado para entregar oxigênio da fonte de oxigênio e gás natural de enriquecimento da fonte de gás natural de enriquecimento a uma corrente de gás redutor que escoa através de um conduto axialmente disposto dentro do coletor de injeção de gás circunferencial comum através de uma pluralidade de portas dispostas circunferencialmente para formar uma corrente da mistura gasosa redutora; em que o coletor de injeção de gás circunferencial comum inclui um coletor de injeção de oxigênio circunferencial adaptado para entregar o oxigênio da fonte de oxigênio à corrente de gás redutor através da pluralidade de portas dispostas circunferencialmente e um coletor de injeção de gás natural de enriquecimento circunferencial adaptado para entregar o gás natural de enriquecimento da fonte de gás natural de enriquecimento à corrente de gás redutor através da pluralidade de portas dispostas circunferencialmente.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Concessão da patente

#16.1

Prazo de Validade: 20 (vinte) anos contados a partir de 25/03/2019, observadas as condições legais

30/09/2025

RPI 2856

Deferimento

#9.1

08/07/2025

RPI 2844

Parecer de pré-exame

#6.23

18/04/2023

RPI 2728

Adição na publicação

#15.35

14/12/2021

RPI 2658

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

29/12/2020

RPI 2608

Alteração de dados cadastrais

#1.1

20/10/2020

RPI 2598

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