Dados do pedido
Número
112019023658Tipo
Depósito
Publicação
PCT
EP2018061157 Carta-patente disponível
Temos o documento oficial completo deste processo, publicado pelo INPI.
Acessar documentoPedido arquivado por falta de pagamento das anuidades (art. 86 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 21/06/2022. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes
BASF COATINGS GMBH
DE
Inventores
B. H. (pessoa física)
DE
F. J. (pessoa física)
DE
J. B. (pessoa física)
DE
J. F. (pessoa física)
DE
M. K. (pessoa física)
DE
R. B. (pessoa física)
DE
S. G. (pessoa física)
DE
Classificação IPC
Prioridades unionistas
EP
17171952.9 · 19/05/2017
Resumo técnico
A invenção refere-se a um sistema de produção compreendendo uma unidade (1) que compreende uma subunidade (1.1) para produzir continuamente formulações. A subunidade (1.1) compreende uma combinação de um misturador de processo de capacidade pequena e um tanque de tampão, meios para alimentar uma quantidade definida de substâncias no misturador de processo, um dispositivo de medição para determinar propriedades de uma carga parcial de uma formulação produzida no misturador de processo, um dispositivo de avaliação para determinar uma variação de propriedades de cargas parciais produzidas no misturador de processo a partir das propriedades de um estado desejado predefinido e um dispositivo para adaptar o suprimento de substâncias levando em consideração as variações. A presente invenção refere-se também a um método para produzir formulações.
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
#8.11
Em virtude do arquivamento publicado na RPI 2669 de 03-03-2022 e considerando ausência de manifestação dentro dos prazos legais, informo que cabe ser mantido o arquivamento do pedido de patente, conforme o disposto no artigo 12, da resolução 113/2013.
21/06/2022
RPI 2685
#8.6
Referente à 4ª anuidade.
03/03/2022
RPI 2669
#15.35
19/10/2021
RPI 2650
#1.3
26/05/2020
RPI 2577
#1.1
19/11/2019
RPI 2550
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