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Dado oficial do INPI

MÉTODO E DISPOSITIVO DE ELETRODEPOSIÇÃO

ConcedidaPatente de InvençãoPCT · JP2017017949 Documento oficial disponível

Dados do pedido

Número

112019011899

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

11/05/2017

Publicação

22/10/2019

PCT

JP2017017949

Carta-patente disponível

Temos o documento oficial completo deste processo, publicado pelo INPI.

Acessar documento

Andamento no INPI

  1. Depósito11/05/17
  2. Publicação22/10/19
  3. Exame
  4. Deferimento08/11/22
  5. Concessão17/01/23
  6. Em vigor11/05/37

Patente concedida em 17/01/2023 e em vigor até 11/05/2037. Até lá, ninguém pode fabricar, usar ou vender a invenção no Brasil sem autorização do titular.

Proteção válida até:11/05/2037

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Depositantes e inventores

Depositantes

Y. C. (pessoa física)

JP

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Inventores

M. I. (pessoa física)

JP

R. T. (pessoa física)

JP

Dados técnicos

Prioridades unionistas

JP

PCT/JP2017/015365 · 14/04/2017

Resumo técnico

A presente invenção refere-se a um método para eletrodeposição que inclui: uma etapa de agitação na qual um grupo de substratos (51) que foi acomodado em uma solução eletrolítica dentro de um tanque de eletrodeposição (10) são feitos fluir em uma direção circunferencial ao longo de uma parede interna (19) do tanque de eletrodeposição (10); e uma etapa de eletrodeposição na qual o grupo de substratos (51) que flui ao longo da direção circunferencial na solução eletrolítica dentro do tanque de eletrodeposição (10) são eletrodepositados. O fluxo do grupo de substratos (51) ao longo da direção circunferencial ocorre em associação com um fluxo, ao longo da direção circunferencial, de um meio magnético (30) na solução eletrolítica dentro do tanque de eletrodeposição (10) ou ocorre em associação com a rotação de uma parte de agitação (46) que está provida em um lado de fundo do tanque de eletrodeposição (10). Pelo menos uma porção do grupo de substratos (51) que flui ao longo da direção circunferencial na solução eletrolítica dentro do tanque de eletrodeposição (10) contacta um catodo de seção inferior (21) que está provido no lado de fundo do tanque de eletrodeposição (10), e os substratos (51) que estão localizados acima destes substratos (51) que contactam o catodo de seção inferior (21) estão eletricamente conectados no catodo de seção inferior (21) pelo menos através dos substratos (51) que contactam o cato-do de seção inferior (21).

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Concessão da patente

#16.1

Prazo de Validade: 20 (vinte) anos contados a partir de 11/05/2017, observadas as condições legais

17/01/2023

RPI 2715

Deferimento

#9.1

08/11/2022

RPI 2705

Adição na publicação

#15.35

13/10/2021

RPI 2649

Parecer de pré-exame

#6.23

03/08/2021

RPI 2639

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

22/10/2019

RPI 2546

Alteração de dados cadastrais

#1.1

25/06/2019

RPI 2529

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