Dados do pedido
Número
112019009744Tipo
Depósito
Publicação
PCT
US2017061860 Patente concedida em 08/08/2023 e depois extinta em 06/01/2026. A proteção terminou antes do prazo e a tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 06/01/2026. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes
TAE TECHNOLOGIES, INC.
US
Inventores
X. Y. (pessoa física)
US
Prioridades unionistas
US
62/422.525 · 15/11/2016
Resumo técnico
A presente invenção se refere a sistemas e métodos que facilitam a formação e manutenção de FRCs com estabilidade superior, assim como confinamento de partículas, energia e fluxo e, mais particularmente, sistemas e métodos que facilitam a formação e manutenção de FRCs com elevadas energias do sistema e melhor sustentação utilizando injeção de feixe neutro e aquecimento de elétron de onda rápida de alta harmônica.
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
#24.10
Em virtude da extinção publicada na RPI 2854 de 16-09-2025 e considerando ausência de manifestação dentro dos prazos legais, informo que cabe ser mantida a extinção da patente e seus certificados, conforme o disposto no artigo 12, da resolução 113/2013.
06/01/2026
RPI 2870
#21.6
Referente à 8ª anuidade.
16/09/2025
RPI 2854
#16.1
Prazo de Validade: 20 (vinte) anos contados a partir de 15/11/2017, observadas as condições legais
08/08/2023
RPI 2744
#9.1
06/06/2023
RPI 2735
#6.23
20/09/2022
RPI 2698
#15.35
05/10/2021
RPI 2648
#1.3
13/08/2019
RPI 2536
#1.1
21/05/2019
RPI 2524
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