Arquivamento - Art. 36 §1° da LPI
#11.2
17/05/2022
RPI 2680
Dados do pedido
Número
112018071704Tipo
Depósito
Publicação
PCT
US2017028481 Pedido arquivado: a exigência técnica do INPI não foi cumprida no prazo (art. 36 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 17/05/2022. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes
O&M HALYARD INTERNATIONAL UNLIMITED COMPANY
IE
Inventores
A. H. (pessoa física)
US
C. N. (pessoa física)
US
E. S. (pessoa física)
US
J. H. (pessoa física)
US
P. P. (pessoa física)
US
Classificação IPC
Prioridades unionistas
US
62/325,729 · 21/04/2016
Resumo técnico
MÁSCARA FACIAL FORMADA A PARTIR DE UMA ESTRUTURA COM MÚLTIPLAS CAMADAS RESISTENTE A ESPIRROSA presente invenção trata de uma máscara facial com múltiplas camadas (100), revestida com padrões descontínuos de material de mudança de fase (300), que estão incorporados na construção da máscara facial (100), para propiciar resfriamento do microclima no espaço morto da máscara facial (100). O resfriamento otimizado é conseguido pelo posicionamento estratégico de camadas revestidas com um material de mudança de fase (300) dentro da construção da máscara (100), e pela quantidade e pela densidade do material de mudança de fase (300) em contato com as áreas sensíveis à temperatura da face, assim como áreas que experimentem a quantidade máxima de fluxo de respiração exalada. O formato da máscara (100) também pode ser ajustado para aumentar o contato da pele com o material de mudança de fase (300) e para diminuir o volume do espaço morto, o que reduz o volume de ar exalado morno e pode fornecer resfriamento suficiente com menos material de mudança de fase (300). Os padrões descontínuos de material de mudança de fase (300) também fornecem espaçamento intercamadas entre as camadas da máscara, o que pode aperfeiçoar a resistência a espirros.
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
#11.2
17/05/2022
RPI 2680
#6.23
25/01/2022
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#15.35
08/09/2021
RPI 2644
#1.3
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RPI 2511
#1.1
30/10/2018
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