Arquivamento - Art. 36 §1° da LPI
#11.2
19/10/2021
RPI 2650
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Dado oficial do INPI
MÉTODO E APARELHO PARA REDUÇÃO DE RENDIMENTO DE FOTOELÉTRON E/OU DE RENDIMENTO DE ELÉTRON SECUNDÁRIO, DURAÇÃO DE PULSO, E, SUPERFÍCIE DE CERÂMICA TRATADA A LASER.
ArquivadaPatente de InvençãoPCT · GB2017050621
Dados do pedido
Número
112018067765Tipo
Patente de Invenção
Depósito
08/03/2017
Publicação
15/01/2019
PCT
GB2017050621 Andamento no INPI
- Depósito08/03/17
- Publicação15/01/19
- Arquivado
- Deferimento
- Concessão
- Em vigor
Pedido arquivado: a exigência técnica do INPI não foi cumprida no prazo (art. 36 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 19/10/2021. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes e inventores
Depositantes
U. D. (pessoa física)
GB
Inventores
A. A. (pessoa física)
GB
Dados técnicos
Classificação IPC
Prioridades unionistas
GB
1603991.9 · 08/03/2016
Resumo técnico
Um método para redução do rendimento de fotoelétron (PEY) e/ou do rendimento de elétron secundário (SEY) de uma superfície de cerâmica que compreende aplicar a radiação a laser pulsada que compreende uma série de pulsos de laser emitidos por um laser (4) na superfície de um alvo (10) para produzir um arranjo periódico de estruturas na superfície do alvo (10).
Histórico de despachos
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
Adição na publicação
#15.35
08/09/2021
RPI 2644
Parecer de pré-exame
#6.23
08/06/2021
RPI 2631
Notificação de entrada na fase nacional - PCT
#1.3
Tendo em vista o disposto na Nota nº 0345-2017-AGU/PGF/PFE/INPI/COOPI-DJT-2.2 da Procuradoria Federal Especializada junto ao INPI, bem como os princípios da proporcionalidade e eficiência, ficou dispensado o exame da autenticidade da procuração neste processo.
15/01/2019
RPI 2506
Alteração de dados cadastrais
#1.1
16/10/2018
RPI 2493
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