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Dado oficial do INPI

FONTE DE ÍONS DE CATODO OCO E MÉTODO DE EXTRAÇÃO E ACELERAÇÃO DE ÍONS

ArquivadaPatente de InvençãoPCT · US2016060979

Dados do pedido

Número

112018012413

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

08/11/2016

Publicação

18/12/2018

PCT

US2016060979

Andamento no INPI

  1. Depósito08/11/16
  2. Publicação18/12/18
  3. Arquivado
  4. Deferimento
  5. Concessão
  6. Em vigor

Pedido arquivado: a exigência técnica do INPI não foi cumprida no prazo (art. 36 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 24/08/2021. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

AGC FLAT GLASS NORTH AMERICA, INC.

US

A. E. (pessoa física)

BE

ASAHI GLASS CO., LTD

JP

Ver toda a carteira desta empresa

Inventores

J. C. (pessoa física)

US

P. M. (pessoa física)

US

Dados técnicos

Prioridades unionistas

US

14/975,286 · 18/12/2015

US

14/975,415 · 18/12/2015

Resumo técnico

Uma fonte de íons e um método de extração e aceleração de íons são fornecidos. A fonte de íons inclui uma câmara. A fonte de íons inclui adicionalmente um primeiro catodo oco possuindo uma primeira cavidade de catodo oco e um primeiro orifício de saída de plasma e um segundo catodo oco possuindo uma segunda cavidade de catodo oco e um segundo orifício de saída de plasma. Os primeiro e segundo catodos ocos são dispostos de forma adjacente na câmara. A fonte de íons inclui adicionalmente um primeiro acelerador de íons entre e em comunicação com o primeiro orifício de saída de plasma e a câmara. O primeiro acele-rador de íons forma uma primeira cavidade de aceleração de íons. A fon-te de íons inclui adicionalmente um segundo acelerador de íons entre e em comunicação com o segundo orifício de plasma e a câmara. O se-gundo acelerador de íons forma uma segunda cavidade de aceleração de íons. O primeiro catodo oco e o segundo catodo oco são configura-dos para funcionar alternativamente como eletrodo e eletrodo contrário para gerar um plasma.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Adição na publicação

#15.35

24/08/2021

RPI 2642

Arquivamento - Art. 36 §1° da LPI

#11.2

01/09/2020

RPI 2591

Exigência preliminar

#6.21

03/03/2020

RPI 2565

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

18/12/2018

RPI 2502

Alteração de dados cadastrais

#1.1

26/06/2018

RPI 2477

Monitoramento de patentes

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