Adição na publicação
#15.35
24/08/2021
RPI 2642
Dados do pedido
Número
112018012413Tipo
Depósito
Publicação
PCT
US2016060979 Pedido arquivado: a exigência técnica do INPI não foi cumprida no prazo (art. 36 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 24/08/2021. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes
AGC FLAT GLASS NORTH AMERICA, INC.
US
A. E. (pessoa física)
BE
ASAHI GLASS CO., LTD
JP
Inventores
J. C. (pessoa física)
US
P. M. (pessoa física)
US
Classificação IPC
Prioridades unionistas
US
14/975,286 · 18/12/2015
US
14/975,415 · 18/12/2015
Resumo técnico
Uma fonte de íons e um método de extração e aceleração de íons são fornecidos. A fonte de íons inclui uma câmara. A fonte de íons inclui adicionalmente um primeiro catodo oco possuindo uma primeira cavidade de catodo oco e um primeiro orifício de saída de plasma e um segundo catodo oco possuindo uma segunda cavidade de catodo oco e um segundo orifício de saída de plasma. Os primeiro e segundo catodos ocos são dispostos de forma adjacente na câmara. A fonte de íons inclui adicionalmente um primeiro acelerador de íons entre e em comunicação com o primeiro orifício de saída de plasma e a câmara. O primeiro acele-rador de íons forma uma primeira cavidade de aceleração de íons. A fon-te de íons inclui adicionalmente um segundo acelerador de íons entre e em comunicação com o segundo orifício de plasma e a câmara. O se-gundo acelerador de íons forma uma segunda cavidade de aceleração de íons. O primeiro catodo oco e o segundo catodo oco são configura-dos para funcionar alternativamente como eletrodo e eletrodo contrário para gerar um plasma.
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
#15.35
24/08/2021
RPI 2642
#11.2
01/09/2020
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#6.21
03/03/2020
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#1.3
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#1.1
26/06/2018
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