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Dado oficial do INPI

SISTEMA E MÉTODO PARA EXPOSIÇÃO CONTROLADA DE PLACAS DE IMPRESSÃO FLEXOGRÁFICAS

Em AnálisePatente de InvençãoPCT · IB2016001660

Dados do pedido

Número

112018008024

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

26/10/2016

Publicação

23/10/2018

PCT

IB2016001660

Andamento no INPI

Em recurso
  1. Depósito26/10/16
  2. Publicação23/10/18
  3. Exame
  4. Deferimento
  5. Concessão
  6. Em vigor

O pedido está em fase de recurso: o INPI ainda vai rever a decisão.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 20/06/2023. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

ESKO-GRAPHICS IMAGING GMBH

DE

Inventores

J. W. (pessoa física)

DE

T. H. (pessoa física)

DE

W. S. (pessoa física)

DE

Dados técnicos

Classificação IPC

Prioridades unionistas

US

62/246,276 · 26/10/2015

Resumo técnico

A presente invenção refere-se a um método e a um aparelho para expor placas de impressão fotossensível com uma densidade de radiação predeterminada a partir do lado principal (topo) e uma densidade de radiação predeterminada a partir do lado posterior (fundo). O método compreende executar a exposição principal com um atraso de tempo após a exposição posterior. O atraso de tempo entre a exposição posterior e a exposição principal é otimizado para criar elementos estáveis de ponto único, menores na placa de impressão fotossensível após o processamento e tamanhos de ponto de elemento único menores impressos no substrato de impressão.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Petição de recurso

#12.2

Recurso: 870230049405 - 9/6/2023

20/06/2023

RPI 2737

Indeferimento

#9.2

11/04/2023

RPI 2727

Conhecimento de parecer técnico

#7.1

08/11/2022

RPI 2705

Exigência preliminar

#6.21

26/05/2020

RPI 2577

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

23/10/2018

RPI 2494

Alteração de dados cadastrais

#1.1

02/05/2018

RPI 2469

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