Arquivamento definitivo - Art. 33 da LPI
#11.1.1
15/10/2019
RPI 2545
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Dado oficial do INPI
AMIDAS DE ÁCIDO OXOTETRA-HIDROQUINOLINILFOSFÍNICO E ÁCIDO FOSFÍNICO SUBSTITUÍDAS OU SAIS DAS MESMAS E USO DAS MESMAS PARA AUMENTAR TOLERÂNCIA A ESTRESSE EM PLANTAS
ArquivadaPatente de InvençãoPCT · EP2016066499
Dados do pedido
Número
112018000824Tipo
Patente de Invenção
Depósito
12/07/2016
Publicação
04/09/2018
PCT
EP2016066499 Andamento no INPI
- Depósito12/07/16
- Publicação04/09/18
- Arquivado
- Deferimento
- Concessão
- Em vigor
Pedido arquivado: o exame técnico não foi requerido nos 36 meses seguintes ao depósito de 12/07/2016, prazo do art. 33 da LPI. A tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 15/10/2019. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes e inventores
Depositantes
B. A. (pessoa física)
DE
Inventores
D. S. (pessoa física)
DE
F. P. (pessoa física)
FR
F. R. (pessoa física)
DE
G. B. (pessoa física)
DE
H. H. (pessoa física)
DE
J. F. (pessoa física)
DE
J. D. (pessoa física)
DE
J. V. (pessoa física)
FR
J. F. (pessoa física)
DE
P. G. (pessoa física)
FR
U. B. (pessoa física)
DE
Dados técnicos
Classificação IPC
Prioridades unionistas
EP
15176810.8 · 15/07/2015
Resumo técnico
AMIDAS DE ÃCIDO OXOTETRA-HIDROQUINOLINILFOSFÃNICO E ÃCIDO FOSFÃNICO SUBSTITUÃDAS DE SAIS DAS MESMAS E USO DAS MESMAS PARA AUMENTAR TOLERÃNCIA A ESTRESSE EM PLANTAS.A invenção se refere a oxotetra-hidroquinolinilfosfina e -fosfonamidas substituÃdas da fórmula geral (I) e sais das mesmas, em que os radicais da fórmula (I) são, cada um, como definido na descrição para melhorar a tolerância a estresse em plantas aestresse abiótico, e para melhorar o crescimento de planta e/ou para aumentar a produtividade de planta.
Histórico de despachos
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
Arquivamento - Art. 33 da LPI
#11.1
30/07/2019
RPI 2534
Notificação de entrada na fase nacional - PCT
#1.3
04/09/2018
RPI 2487
Alteração de dados cadastrais
#1.1
03/04/2018
RPI 2465
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