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Dado oficial do INPI

FONTE DE PLASMA QUE UTILIZA UM REVESTIMENTO DE REDUÇÃO DE MACRO PARTÍCULA E MÉTODO DE USAR A FONTE DE PLASMA QUE UTILIZA UM REVESTIMENTO DE REDUÇÃO DE MACRO PARTÍCULA PARA A DEPOSIÇÃO DE REVESTIMENTOS DE FILME FINO E MODIFICAÇÃO DE SUPERFÍCIES

Em AnálisePatente de InvençãoPCT · US2014068919

Dados do pedido

Número

112017011770

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

05/12/2014

Publicação

26/12/2017

PCT

US2014068919

Andamento no INPI

Exigência a cumprir
  1. Depósito05/12/14
  2. Publicação26/12/17
  3. Exame
  4. Deferimento
  5. Concessão
  6. Em vigor

O INPI fez uma exigência técnica neste pedido. Se não for cumprida no prazo, o pedido é arquivado (art. 36 da LPI).

Prazo para cumprir a exigência:28/09/2026(faltam 35 dias)

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Última movimentação publicada pelo INPI: 30/06/2026. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

AGC FLAT GLASS NORTH AMERICA, INC.

US

AGC GLASS EUROPE, S.A.

BE

AGC INC.

JP

ASAHI GLASS COMPANY LTD.

JP

Ver toda a carteira desta empresa

Inventores

H. J. (pessoa física)

US

J. C. (pessoa física)

US

P. M. (pessoa física)

US

Y. L. (pessoa física)

US

Dados técnicos

Classificação IPC

Resumo técnico

A presente invenção refere-se em geral a uma fonte de plasma que utiliza um revestimento de redução de macro partícula e método de usar a fonte de plasma que utiliza a redução de macro partícula para a deposição de revestimentos de filme fino e modificação de superfícies. Mais particularmente, a presente invenção refere-se a uma fonte de plasma que compreende um ou mais eletrodos de geração de plasma, em que um revestimento de redução de macro partícula é depositado em pelo menos uma porção das superfícies de geração de plasma dos um ou mais eletrodos para proteger as superfícies de geração de plasma dos eletrodos a partir de erosão pelo plasma produzido e para resistir à formação de matéria particulada, assim aumentando o desempenho e estendendo a vida útil da fonte de plasma.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

121

Recorrente: O depositante.@ Despacho: Cumpra as exigências do parecer no prazo de 60 (sessenta) dias. [121]

30/06/2026

RPI 2895

Petição de recurso

#12.2

Recurso: 870220101556 - 3/11/2022

16/11/2022

RPI 2706

Indeferimento

#9.2

06/09/2022

RPI 2696

Conhecimento de parecer técnico

#7.1

17/05/2022

RPI 2680

Exigência preliminar

#6.21

16/06/2020

RPI 2580

Alteração de nome deferida

#25.4

19/03/2019

RPI 2515

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

26/12/2017

RPI 2451

Alteração de dados cadastrais

#1.1

29/08/2017

RPI 2434

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