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Recorrente: O depositante.@ Despacho: Cumpra as exigências do parecer no prazo de 60 (sessenta) dias. [121]
30/06/2026
RPI 2895
Dados do pedido
Número
112017011770Tipo
Depósito
Publicação
PCT
US2014068919 O INPI fez uma exigência técnica neste pedido. Se não for cumprida no prazo, o pedido é arquivado (art. 36 da LPI).
Prazo para cumprir a exigência:28/09/2026(faltam 35 dias)
Última movimentação publicada pelo INPI: 30/06/2026. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes
AGC FLAT GLASS NORTH AMERICA, INC.
US
AGC GLASS EUROPE, S.A.
BE
AGC INC.
JP
ASAHI GLASS COMPANY LTD.
JP
Inventores
H. J. (pessoa física)
US
J. C. (pessoa física)
US
P. M. (pessoa física)
US
Y. L. (pessoa física)
US
Classificação IPC
Resumo técnico
A presente invenção refere-se em geral a uma fonte de plasma que utiliza um revestimento de redução de macro partícula e método de usar a fonte de plasma que utiliza a redução de macro partícula para a deposição de revestimentos de filme fino e modificação de superfícies. Mais particularmente, a presente invenção refere-se a uma fonte de plasma que compreende um ou mais eletrodos de geração de plasma, em que um revestimento de redução de macro partícula é depositado em pelo menos uma porção das superfícies de geração de plasma dos um ou mais eletrodos para proteger as superfícies de geração de plasma dos eletrodos a partir de erosão pelo plasma produzido e para resistir à formação de matéria particulada, assim aumentando o desempenho e estendendo a vida útil da fonte de plasma.
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
Recorrente: O depositante.@ Despacho: Cumpra as exigências do parecer no prazo de 60 (sessenta) dias. [121]
30/06/2026
RPI 2895
#12.2
Recurso: 870220101556 - 3/11/2022
16/11/2022
RPI 2706
#9.2
06/09/2022
RPI 2696
#7.1
17/05/2022
RPI 2680
#6.21
16/06/2020
RPI 2580
#25.4
19/03/2019
RPI 2515
#1.3
26/12/2017
RPI 2451
#1.1
29/08/2017
RPI 2434
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