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Dado oficial do INPI

METALIZAÇÃO DE NÍQUEL ELETROLÍTICO COMPÓSITO

ArquivadaPatente de InvençãoPCT · US2015038295

Dados do pedido

Número

112017000360

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

29/06/2015

Publicação

07/11/2017

PCT

US2015038295

Andamento no INPI

  1. Depósito29/06/15
  2. Publicação07/11/17
  3. Arquivado
  4. Deferimento
  5. Concessão
  6. Em vigor

Pedido arquivado: o exame técnico não foi requerido nos 36 meses seguintes ao depósito de 29/06/2015, prazo do art. 33 da LPI. A tecnologia está em domínio público no Brasil.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 16/10/2018. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

MACDERMID ACUMEN, INC.

US

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Inventores

B. M. (pessoa física)

US

J. P. (pessoa física)

US

N. M. (pessoa física)

US

Dados técnicos

Classificação IPC

Prioridades unionistas

US

14/327.995 · 10/07/2014

Resumo técnico

Um método para produção de uma camada de níquel eletrolítico compósito em um substrato é descrito. O método inclui as etapas de contactar o substrato com um banho de metalização de níquel eletrolítico compósito e gerar um campo eletrostático no banho de metalização de níquel eletrolítico. O campo elétrico é gerado colocando um anodo no banho de metalização de níquel eletrolítico e conectando um anodo a um terminal positivo de um retificador CC, e preferencialmente inserir um capacitor no circuito para prevenir passagem de corrente. Uma força de atração gerada pelo campo eletrostático aumentando a atração das partículas PTFE carregadas positivamente ao substrato carregado negativamente e aciona as partículas PTFE carregadas positivamente ao substrato carregado negativamente.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Arquivamento definitivo - Art. 33 da LPI

#11.1.1

16/10/2018

RPI 2493

Arquivamento - Art. 33 da LPI

#11.1

17/07/2018

RPI 2480

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

07/11/2017

RPI 2444

Alteração de dados cadastrais

#1.1

17/01/2017

RPI 2402

Monitoramento de patentes

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