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Dado oficial do INPI

DISPOSITIVO PARA PROJEÇÃO DE MÁSCARA DE FEIXES DE LASER DE FEMTOSSEGUNDOS E PICOSSEGUNDOS EM UMA SUPERFÍCIE DE SUBSTRATO

ExtintaPatente de InvençãoPCT · IB2015053494

Dados do pedido

Número

112016024485

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

12/05/2015

Publicação

15/08/2017

PCT

IB2015053494

Andamento no INPI

  1. Depósito12/05/15
  2. Publicação15/08/17
  3. Exame
  4. Deferimento10/05/22
  5. Concessão12/07/22
  6. Extinto08/07/25

Patente concedida em 12/07/2022 e depois extinta em 08/07/2025. A proteção terminou antes do prazo e a tecnologia está em domínio público no Brasil.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 08/07/2025. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

BOEGLI-GRAVURES S.A.

CH

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Inventores

A. K. (pessoa física)

DE

A. E. (pessoa física)

DE

C. B. (pessoa física)

CH

G. R. (pessoa física)

DE

M. P. (pessoa física)

DE

M. K. (pessoa física)

CH

S. W. (pessoa física)

DE

Dados técnicos

Prioridades unionistas

EP

14167931.6 · 12/05/2014

Resumo técnico

DISPOSITIVO PARA PROJEÇÃO DE MÁSCARA DE FEIXES DE LASER DE FEMTOSSEGUNDOS E PICOS-SEGUNDOS COM UMA LÂMINA, UMA MÁSCARA E SISTEMAS DE LENTES.Dispositivo para a projeção de máscara de feixes de laser de femtossegundos ou picossegundos (2) sobre uma superfície de substrato, no qual o feixe de laser (2) consistindo em pulsos de feixe de laser é, em uma localização do eixo óptico, formado para produzir pulsos de feixe de laser com uma seção transversal de feixe de laser expandida ou pulsos de feixe de laser com uma seção transversal de feixe de laser reduzida, o feixe de laser (2) apresentando uma distribuição de intensidade homogênea sobre a seção transversal de feixe de laser. Um diafragma (6) e uma mascara (7) com uma geometria de abertura de diafragma e mascara predeterminada respectivamente são posicionados em sucessão na trajetória do feixe (2) no local. O dispositivo contém um sistema de lentes de campo (8) e uma lente de imagem (10), posicionados de tal maneira que os componentes de feixe não difratados e difratados dos pulsos do feixe de laser (2) transmitidos pelo diafragma (6) e pela máscara (7) sejam dirigidos para a lente de imagem (10) com uma abertura predeterminada com o auxílio do sistema de lentes de campo (8), em que uma imagem reduzida, precisa em cada detalhe, do perfil de intensidade gerado pelo diafragma (6) e a pela máscara (7) seja gerada sobre a seção transversal de feixe de laser dos pulsos de feixe de laser no plano de imagem.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Manutenção da Extinção - Art. 78 inciso IV da LPI

#24.10

Em virtude da extinção publicada na RPI 2827 de 11-03-2025 e considerando ausência de manifestação dentro dos prazos legais, informo que cabe ser mantida a extinção da patente e seus certificados, conforme o disposto no artigo 12, da resolução 113/2013.

08/07/2025

RPI 2844

Extinção para fins de restauração (art. 87)

#21.6

Referente à 10ª anuidade.

11/03/2025

RPI 2827

Concessão da patente

#16.1

Prazo de Validade: 20 (vinte) anos contados a partir de 12/05/2015, observadas as condições legais

12/07/2022

RPI 2688

Deferimento

#9.1

10/05/2022

RPI 2679

Adição na publicação

#15.35

03/08/2021

RPI 2639

Exigência preliminar

#6.21

28/04/2020

RPI 2573

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

Publicação automática da admissibilidade da fase nacional depositado via PCT . Tratado de cooperação em matéria de Patentes, conforme Instrução Normativa nº 02, de 06/06/2017 publicada na RPI nº 2422, de 06/06/2017.

15/08/2017

RPI 2432

Alteração de dados cadastrais

#1.1

01/11/2016

RPI 2391

Monitoramento de patentes

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