Dados do pedido
Número
112016019885Tipo
Depósito
Publicação
PCT
JP2015054145 Patente concedida em 03/05/2022 e depois extinta em 02/04/2024. A proteção terminou antes do prazo e a tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 02/04/2024. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes
F. C. (pessoa física)
JP
Inventores
K. W. (pessoa física)
JP
Classificação IPC
Prioridades unionistas
JP
2014-035791 · 26/02/2014
Resumo técnico
MÉTODO PARA PROCESSAR PRECURSOR DE PLACA LITOGRÁFICA DO TIPO DE DESENVOLVIMENTO EM PRENSA E MÉTODO DE IMPRESSÃO. Trata-se de um método para processar um precursor de placa de impressão litográfica do tipo de desenvolvimento em prensa e um método de impressão que não causa manchas de borda, e em que não existem manchas em uma porção não exposta diferente de uma porção de borda e uma placa de impressão litográfica que tem uma largura de água ampla durante a impressão, em relação às manchas de borda, é fornecida, através de um método para processar um precursor de placa de impressão litográfica do tipo de desenvolvimento em prensa que tem uma camada de registro de imagem em uma sustentação, em que uma região dentro de 1 cm a partir de uma porção de extremidade em uma superfície de placa do precursor de placa de impressão litográfica é revestida com um líquido de processamento que contém um agente de hidrofilização, após submeter o precursor de placa de impressão litográfica do tipo de desenvolvimento em prensa à exposição de imagem, antes de montar o precursor de placa de impressão litográfica do tipo de desenvolvimento em prensa em uma prensa de impressão, e o que é realizado de forma que o meio de revestimento não entre em contato com a superfície de placa, e um método de impressão.
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
#24.10
Em virtude da extinção publicada na RPI 2762 de 12-12-2023 e considerando ausência de manifestação dentro dos prazos legais, informo que cabe ser mantida a extinção da patente e seus certificados, conforme o disposto no artigo 12, da resolução 113/2013.
02/04/2024
RPI 2778
#21.6
Referente à 9ª anuidade.
12/12/2023
RPI 2762
#16.1
20 (vinte) anos contados a partir de 16/02/2015, observadas as condições legais
03/05/2022
RPI 2678
#9.1
03/03/2022
RPI 2669
#15.35
03/08/2021
RPI 2639
#15.35
20/07/2021
RPI 2637
#1.3
22/06/2021
RPI 2633
#1.5
Apresentar a tradução simples da folha de rosto da certidão de depósito da prioridade JP 2014-035791 de 26/02/2014 ou declaração contendo, obrigatoriamente, todos os dados identificadores desta (depositante(s), inventor(es), número de registro, data de depósito e título), conforme o parágrafo único do Art. 25 da Resolução 77/2013, uma vez que não foi possível determinar o(s) titular(es) da citada prioridade, nem seus inventores, informação necessária para o exame.
13/04/2021
RPI 2623
Anulada a publicação código 1.3 na RPI nº 2432 de 15/08/2017 por ter sido indevida.
06/04/2021
RPI 2622
#6.21
07/04/2020
RPI 2570
#1.3
Publicação automática da admissibilidade da fase nacional depositado via PCT . Tratado de cooperação em matéria de Patentes, conforme Instrução Normativa nº 02, de 06/06/2017 publicada na RPI nº 2422, de 06/06/2017.
15/08/2017
RPI 2432
#1.1
01/11/2016
RPI 2391
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Monitoramento de patentes
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