Resumo técnico
RESUMOSISTEMAS E MÉTODOS PARA FORMAÇÃO E MANUTENÇÃO DE UMA CCR DE ALTO DESEMPENHOTrata-se de um sistema de configuração de campo reverso (CCR) de alto desempenho que inclui um recipiente de confinamento central (100), duas seções de formação tipo theta-pinch de campo reverso diametralmente opostas (200) acopladas ao recipiente (100) e duas câmaras derivadoras (300) acopladas às seções de formação (200). Um sistema magnético inclui bobinas semi-dc (412, 414, 416) axialmente posicionadas ao longo dos componentes do sistema de CCR, bobinas de reflexão semi-dc (420) entre a câmara de confinamento (100) e as seções de formação, e plugues de espelho entre as seções de formação e os derivadores. As seções de formação (200) incluem sistemas de formação de potência pulsada modular que permitem uma formação estática e dinâmica e a aceleração das CCRs. O sistema de CCR inclui, ainda, injetores de feixe de átomo neutro (610, 640), injetores de péletes (700), sistemas de absorção (810, 820), pistolas de plasma axiais e eletrodos de polarização superficiais de fluxo. De preferência, os injetores de feixe são angulados em direção ao plano intermediário da câmara. Em operação, os parâmetros de plasma de CCR incluindo energia térmica de plasma, números totais de partícula, raio e fluxo magnético aprisionado, são sustentáveis em ou ao redor de um valor constante sem decaimento durante a injeção de feixe neutro.