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Dado oficial do INPI

ADESIVOS ORTODÔNTICOS LIVRES DE BISGMA

Arquivada/ExtintaPatente de InvençãoPCT · MX2014000092

Dados do pedido

Número

112015031365

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

17/06/2014

Publicação

25/07/2017

PCT

MX2014000092

Andamento no INPI

  1. Depósito17/06/14
  2. Publicação25/07/17
  3. Arquivado
  4. Deferimento
  5. Concessão
  6. Em vigor

Pedido arquivado por falta de pagamento das anuidades (art. 86 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 20/07/2021. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

U. M. (pessoa física)

MX

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Inventores

C. G. (pessoa física)

MX

E. P. (pessoa física)

MX

G. E. (pessoa física)

MX

Dados técnicos

Prioridades unionistas

MX

MX/A/2013/006893 · 17/06/2013

Resumo técnico

ADESIVOS ORTODÔNTICOS LIVRES DE BIsGMA.Três adesivos formulados com Trimetacrilato de Trimetilolpropano (TMPTMA) que não contêm BisGMA foram desenvolvidos, pelos quais o risco mutagênico e teratogênico pela liberação de bisfenol A é elimina do, e apresentaram um melhor desempenho em comparação com os três adesivos comerciais preparados com BisGMA (Adesivo A, Adesivo C e Adesivo B). A invenção proporciona um adesivo utilizado de única etapa e proporciona um sistema que é formado por um iniciador e uma pasta. Os adesivos da invenção foram comparados com dois controles comerciais. Eles foram caracterizados fisicamente por meio da avaliação: do tempo de endurecimento, da força de adesão, do módulo de elasticidade, da sorção e da solubilidade em diferentes pHs (6,8 e 7,7); por meio dos valores obtidos evitam-se os descolamentos prematuros, as lesões brancas abaixo do aparelho e a microfiltração; sua fluidez e espessura de película foram avaliadas e comparadas com aquelas obtidas pelos três adesivos comerciais. A estabilidade em armazenamento e a análise termogravimétrica foram a valiadas. Os adesivos preparados com TMPTMA são fotopolimeriz áveis, proporcionando assim tempo suficiente para o operador colocar o aparelho na posição adequada, são fáceis de manipular, são capazes de suportar a biomecânica ortodôntica, possuem baixo módulo de elasticidade, permitem transições de arcos pesados, o que reduz o risco de descolamento involuntário dos aparelhos, possuem baixa viscosidade, penetram tanto nas retenções da banda quanto naquelas produzidas pelo condicionamento ácido na superfície do esmalte, apresentam adesão tanto à base dos acessórios quanto ao esmalte, e a sua espessura de película é mínima, não alterando o sistema de prescrição. Quando o aparelho é removido ao final do tratamento, não provoca Três adesivos formulados com Trimetacrilato de Trimetilolpropano (TMPTMA) que não contêm BisGMA foram desenvolvidos, pelos quais o risco mutagênico e teratogênico pela liberação de bisfenol A é elimina do, e apresentaram um melhor desempenho em comparação com os três adesivos comerciais preparados com BisGMA (Adesivo A, Adesivo C e Adesivo B). A invenção proporciona um adesivo utilizado de única etapa e proporciona um sistema que é formado por um iniciador e uma pasta. Os adesivos da invenção foram comparados com dois controles comerciais. Eles foram caracterizados fisicamente por meio da avaliação: do tempo de endurecimento, da força de adesão, do m ódulo de elasticidade, da sorção e da solubilidade em diferentes pHs (6,8 e 7,7); por meio dos valores obtidos evitam-se os descolamentos prematuros, as lesões brancas abaixo do aparelho e a microfiltração; sua fluidez e espessura de película foram avaliadas e comparadas com aquelas obtidas pelos três adesivos comerciais. A estabilidade em armazenamento e a análise termogravimétrica foram a valiadas. Os adesivos preparados com TMPTMA são fotopolimerizáveis, proporcionando assim tempo suficiente para o operador colocar o aparelho na posição adequada, são fáceis de manipular, são capazes de suportar a biomecânica, possuem baixo módulo de elasticidade, permitem transições de arcos pesados, o que reduz o risco de descolamento involuntário dos aparelhos, possuem baixa viscosidade, penetram tanto nas retenções da banda quanto naquelas produzidas pelo condicionamento ácido na superfície do esmalte, apresentam adesão tanto à base dos acessórios quanto ao esmalte, e a sua espessura de película é mínima, não alterando o sistema de prescrição. Quando o aparelho é removido ao final do tratamento, não provoca danos à estrutura do esmalte, uma vez que o adesivo permanece sobre o esmalte e pode ser removido facilmente com um instrumento rotativo.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Adição na publicação

#15.35

20/07/2021

RPI 2637

Arquivamento definitivo por descumprimento

#8.11

Em virtude do arquivamento publicado na RPI 2518 de 09-04-2019 e considerando ausência de manifestação dentro dos prazos legais, informo que cabe ser mantido o arquivamento do pedido de patente, conforme o disposto no artigo 12, da resolução 113/2013.

30/07/2019

RPI 2534

Arquivamento por falta de pagamento

#8.6

Referente à 5ª anuidade.

09/04/2019

RPI 2518

7.2

Anulada a publicação código 7.4 na RPI nº 2455 de 23/01/2018 por ter sido indevida.

15/05/2018

RPI 2471

Retificação da notificação da fase nacional - PCT

#1.3.1

Referente à RPI 2429 de 25/07/2017,quanto ao item (71).

23/01/2018

RPI 2455

Ciência (anuência ANVISA - art. 229-C)

#7.4

De acordo com o artigo 229-C da Lei nº 10196/2001, que modificou a Lei nº 9279/96, a concessão da patente está condicionada à anuência prévia da ANVISA. Considerando a aprovação dos termos do Parecer nº 337/PGF/EA/2010, bem como a Portaria Interministerial Nº 1065 de 24/05/2012, encaminha-se o presente pedido para as providências cabíveis.

23/01/2018

RPI 2455

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

Publicação automática da admissibilidade da fase nacional depositado via PCT . Tratado de cooperação em matéria de Patentes, conforme Instrução Normativa nº 02, de 06/06/2017 publicada na RPI nº 2422, de 06/06/2017.

25/07/2017

RPI 2429

Alteração de dados cadastrais

#1.1

29/12/2015

RPI 2347

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