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Dado oficial do INPI

SISTEMA DE COMPÓSITO COM ALTA RESISTÊNCIA AO IMPACTO E UM PONTO DE AMOLECIMENTO ALTO

ArquivadaPatente de InvençãoPCT · EP2013060702

Dados do pedido

Número

112015029434

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

24/05/2013

Publicação

25/07/2017

PCT

EP2013060702

Andamento no INPI

  1. Depósito24/05/13
  2. Publicação25/07/17
  3. Arquivado
  4. Deferimento
  5. Concessão
  6. Em vigor

Pedido arquivado: a exigência técnica do INPI não foi cumprida no prazo (art. 36 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 21/09/2021. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

EVONIK RÖHM GMBH

DE

RÖHM GMBH

DE

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Inventores

C. C. (pessoa física)

TW

G. D. (pessoa física)

DE

M. W. (pessoa física)

DE

R. C. (pessoa física)

DE

Dados técnicos

Resumo técnico

SISTEMA COMPÓSITO COM ELEVADA RESISTÊNCIA AO IMPACTO E UM ELEVADO PONTO DE AMOLECIMENTO.A presente invenção se refere a um sistema compósito, de preferência, uma película de múltiplas camadas, tendo alta resistência ao impacto e resistência à distorção térmica e a um processo para a sua produção e seu uso.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Arquivamento - Art. 36 §1° da LPI

#11.2

21/09/2021

RPI 2646

Adição na publicação

#15.35

20/07/2021

RPI 2637

Exigência - art. 36 da LPI

#6.1

04/05/2021

RPI 2626

Alteração de sede deferida

#25.7

18/08/2020

RPI 2589

Exigência preliminar

#6.21

07/01/2020

RPI 2557

Alteração de sede deferida

#25.7

17/12/2019

RPI 2554

Alteração de nome deferida

#25.4

03/12/2019

RPI 2552

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

Publicação automática da admissibilidade da fase nacional depositado via PCT . Tratado de cooperação em matéria de Patentes, conforme Instrução Normativa nº 02, de 06/06/2017 publicada na RPI nº 2422, de 06/06/2017.

25/07/2017

RPI 2429

Alteração de dados cadastrais

#1.1

15/12/2015

RPI 2345

Monitoramento de patentes

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