Concessão da patente
#16.1
20 (vinte) anos contados a partir de 26/07/2013, observadas as condições legais
14/09/2021
RPI 2645
Dados do pedido
Número
112015001857Tipo
Depósito
Publicação
PCT
JP2013070348 Patente concedida em 14/09/2021 e em vigor até 26/07/2033. Até lá, ninguém pode fabricar, usar ou vender a invenção no Brasil sem autorização do titular.
Proteção válida até:26/07/2033
Última movimentação publicada pelo INPI: 14/09/2021. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes
F. C. (pessoa física)
JP
Inventores
A. N. (pessoa física)
JP
A. M. (pessoa física)
JP
H. S. (pessoa física)
JP
S. K. (pessoa física)
JP
Y. T. (pessoa física)
JP
Y. M. (pessoa física)
JP
Prioridades unionistas
JP
2012-167777 · 27/07/2012
JP
2012-210628 · 25/09/2012
JP
2013-054293 · 15/03/2013
Resumo técnico
RESUMOSUPORTE PARA CHAPA DE IMPRESSÃO LITOGRÁFICA, E MÉTODO DE PRODUÇÃO DO MESMO, BEM COMO DA CHAPA DE IMPRESSÃO LITOGRÁFICA ORIGINAL"O objetivo da presente invenção é fornecer um suporte para uma chapa de impressão litográfica. O suporte tem excelente resistência a riscos e com o suporte, pode ser obtida uma chapa de impressão litográfica original com excelente durabili-dade de impressão, quando utilizada como uma chapa de impressão litográfica, e uma excelente capacidade de revelação na prensa. Para este suporte para chapa de impressão litográfica, que é fornecido com uma chapa de alumínio e uma pelí-cula de alumínio anodizada sobre ele, os microporos na película anodizada se estendem na direção de profundidade a partir da superfície, a qual está no lado oposto da chapa de alumínio. Os microporos estão configurados a partir de uma seção de furo de grande diâmetro, que se estende da superfície da película anodizada até uma profundidade média de 75 a 120 nm (profundidade (a)), e uma seção de furo de pequeno diâmetro, que se conecta com a parte inferior do furo da seção de furo de grande diâmetro e estende-se da posição de conexão até uma profundidade média de 900 a 2.000 nm. O diâmetro médio da superfície da película anodizada da seção de furo de grande diâmetro é de 10 nm, mas menor do que 30 nm, e o diâmetro médio e a profundidade (A) satisfazem a razão (profundidade (A) / diâmetro médio) = maior do que 4,0 a 12,0; e o diâmetro médio na posição de cone-xão da seção dos poros de pequeno diâmetro é maior do que 0 e menor do que 10 nm.
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
#16.1
20 (vinte) anos contados a partir de 26/07/2013, observadas as condições legais
14/09/2021
RPI 2645
#9.1
06/07/2021
RPI 2635
#6.21
11/02/2020
RPI 2562
#1.3
31/12/2019
RPI 2556
#1.5
Apresente a tradução simples da folha de rosto da certidão de depósito das prioridades: JP 2012-167777, JP 2012-210628 e JP 2013-054293; ou declaração de que os dados do pedido internacional estão fielmente contidos na prioridade reivindicada, contendo todos os dados identificadores desta (titulares, número de registro, data e título), conforme o parágrafo único do Art. 25 da Resolução 77/2013. Cabe salientar que não foi possível identificar os titulares do pedido prioritário nos documentos juntados ao processo, tampouco nos apresentados na OMPI, pois se encontram em japonês.
13/08/2019
RPI 2536
#1.3.2
Anulada a publicação código 1.3 na RPI nº 2426 de 04/07/2017 por ter sido indevida.
06/08/2019
RPI 2535
#6.6.1
04/12/2018
RPI 2500
#1.3
Publicação automática da admissibilidade da fase nacional depositado via PCT . Tratado de cooperação em matéria de Patentes, conforme Instrução Normativa nº 02, de 06/06/2017 publicada na RPI nº 2422, de 06/06/2017.
04/07/2017
RPI 2426
#1.1
31/03/2015
RPI 2308
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