APARELHO FONTE DE PLASMA, FERRAMENTA DE PROCESSAMENTO DE MATERIAIS, E, MÉTODOS PARA GERAR UM FEIXE DE PARTÍCULAS CARREGADAS, PARA MODIFICAR UMA PEÇA DE TRABALHO E PARA FORMAR IMAGEM DE UMA PEÇA DE TRABALHO

Classificação IPC

Prioridades unionistas

Resumo técnico

1 / 1 RESUMO âAPARELHO FONTE DE PLASMA, FERRAMENTA DE PROCESSAMENTO DE MATERIAIS, E, MÃTODOS PARA GERAR UM FEIXE DE PARTÃCULAS CARREGADAS, PARA MODIFICAR UMA PEÃA DE TRABALHO E PARA FORMAR IMAGEM DE UMA PEÃA DE TRABALHOâ Um aparelho fonte de plasma para gerar um feixe de partículas carregadas é descrito. O aparelho compreende: uma câmara de plasma fornecida com uma entrada para o ingresso de gás e uma abertura para extração de partículas carregadas a partir da câmara de plasma; uma unidade de geração de plasma de rádio frequência (RF) para gerar um plasma dentro da câmara de plasma, a unidade de geração de plasma de rádio frequência compreendendo primeiro e segundo circuitos ressonantes, cada um sintonizado para ressonar substancialmente na mesma frequência ressonante, o primeiro circuito ressonante compreendendo uma primeira antena e uma primeira fonte de alimentação de RF adaptada para acionar o primeiro circuito ressonante substancialmente em sua frequência ressonante, e o segundo circuito ressonante compreendendo uma segunda antena, pelo que, em utilização, um sinal de RF é induzido na segunda antena pelo primeiro circuito ressonante devido a acoplamento ressonante, o segundo circuito ressonante sendo configurado para aplicar o sinal de RF induzido à câmara de plasma, para gerar um plasma nela; e uma unidade de aceleração de partículas para extrair partículas carregadas a partir do plasma e acelerar as partículas carregadas para formar um feixe, a unidade de aceleração de partículas compreendendo uma segunda fonte de alimentação configurada para aplicar potencial entre a câmara de plasma e um eletrodo de aceleração, a região entre a câmara de plasma e o eletrodo de aceleração constituindo uma coluna de aceleração. A primeira fonte de alimentação é adaptada para dar saída a uma voltagem alta em relação à quela saída pela primeira fonte de alimentação de RF.