Alteração de nome deferida
#25.4
19/04/2022
RPI 2676
Dados do pedido
Número
112014026483Tipo
Depósito
Publicação
PCT
US2013036614 Patente concedida em 17/03/2020 e em vigor até 15/04/2033. Até lá, ninguém pode fabricar, usar ou vender a invenção no Brasil sem autorização do titular.
Proteção válida até:15/04/2033
Última movimentação publicada pelo INPI: 19/04/2022. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes
ARXADA, LLC
US
LONZA, INC.
US
LONZA, LLC
US
Inventores
J. K. (pessoa física)
US
P. S. (pessoa física)
US
S. C. (pessoa física)
US
Classificação IPC
Prioridades unionistas
US
61/637,075 · 23/04/2012
US
61/709,784 · 04/10/2012
Resumo técnico
RESUMOCOMPOSIÇÃO ANTIMICROBIANA, COMPOSIÇÃO ANTIMICROBIANA BICOMPONENTE, PANO DE LIMPEZA, MÉTODO PARA DESINFETAR UMA SUPERFÍCIE E MÉTODO PARA CONTROLAR ESPOROS SOBRE UMA SUPERFÍCIEÉ descrita uma composição antimicrobiana contendo um componente contendo halogênio ativo, tendo uma fonte de um halogênio ativo e pH elevado, que é misturada com um componente ácido. Um componente ácido é adicionado em uma quantidade ao componente contendo halogênio ativo para reduzir o pH da composição antimicrobiana. Quando o pH da composição contendo halogênio ativo é reduzido, constata-se que a composição resultante é eficaz como desinfetante e, particularmente, como esporicida. Métodos de aplicação para aplicar a composição são também descritos.1/1
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
#25.4
19/04/2022
RPI 2676
#25.1
29/12/2020
RPI 2608
#16.1
20 (vinte) anos contados a partir de 15/04/2013, observadas as condições legais
17/03/2020
RPI 2567
#9.1
04/02/2020
RPI 2561
#15.11
As Classificações Anteriores eram: A01N 25/18 , A01N 59/00
21/05/2019
RPI 2524
#7.1
14/05/2019
RPI 2523
#6.6.1
27/03/2018
RPI 2464
#1.3
Publicação automática da admissibilidade da fase nacional depositado via PCT . Tratado de cooperação em matéria de Patentes, conforme Instrução Normativa nº 02, de 06/06/2017 publicada na RPI nº 2422, de 06/06/2017.
27/06/2017
RPI 2425
#1.1
02/12/2014
RPI 2291
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