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Dado oficial do INPI

MÉTODOS PARA FORMAR UM REVESTIMENTO, APARELHO E SISTEMA DE ILUMINAÇÃO ARTIFICIAL.

ArquivadaPatente de InvençãoPCT · US2013033957

Dados do pedido

Número

112014024991

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

27/03/2013

Publicação

20/06/2017

PCT

US2013033957

Andamento no INPI

  1. Depósito27/03/13
  2. Publicação20/06/17
  3. Arquivado
  4. Deferimento
  5. Concessão
  6. Em vigor

Pedido arquivado: a exigência técnica do INPI não foi cumprida no prazo (art. 36 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 14/01/2020. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

GE LIGHTING SOLUTIONS, LLC

US

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Inventores

A. C. (pessoa física)

US

D. C. (pessoa física)

US

G. A. (pessoa física)

US

J. C. (pessoa física)

US

Dados técnicos

Classificação IPC

Prioridades unionistas

US

13/711,991 · 12/12/2012

US

61/635,463 · 19/04/2012

Resumo técnico

MÃTODOS PARA FORMAR UM REVESTIMENTO REFLEXIVO EM UM SUBSTRATO, APARELHO DE ILUMINAÃÃO, MÃTODO DE FORMAÃÃO DE UM REVESTIMENTO, REFLEXIVO EM UMA SUPERFÃCIE DE UM SUBSTRATO DE PLÃSTICO E SISTEMA DE ILUMINAÃÃO A presente invenção, em geral, envolve personalizar as propriedades de um revestimento reflexivo (26) para inclusão em um dispositivo de iluminação artificial. Mais particularmente, certas realizações se referem a um método de formação de um revestimento reflexivo (26) para inclusão em um dispositivo de lâmpada. O método para formar um revestimento reflexivo em um substrato (12) compreende aplicar um material precursor sobre o substrato (12), em que o material precursor compreende uma resina ligante reticulada (32), um reticulador e um pigmento (30); cura mole do material precursor em um primeiro nível de energia de cura para uma primeira duração de cura; e em seguida, cura rígida do material precursor em um segundo nível de energia de cura para uma segunda duração de cura para formar o revestimento reflexivo (26), em que o segundo nível de energia de cura tem uma quantidade maior de energia do que o primeiro nível de energia de cura.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Arquivamento - Art. 36 §1° da LPI

#11.2

14/01/2020

RPI 2558

Exigência preliminar

#6.21

10/09/2019

RPI 2540

Notificação de acesso ao patrimônio genético

#6.6.1

27/03/2018

RPI 2464

Retificação da notificação da fase nacional - PCT

#1.3.1

Retificação do despacho 1.3 publicado na RPI nº 2424 para inclusão da informação que tal despacho referiu-se a publicação automática da admissibilidade da fase nacional depositado via PCT . Tratado de cooperação em matéria de Patentes, conforme Instrução Normativa nº 02, de 06/06/2017 publicada na RPI nº 2422, de 06/06/2017.

25/07/2017

RPI 2429

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

Publicação automática da admissibilidade da fase nacional depositado via PCT . Tratado de cooperação em matéria de Patentes, conforme Instrução Normativa nº 02, de 06/06/2017 publicada na RPI nº 2422, de 06/06/2017.

20/06/2017

RPI 2424

Alteração de dados cadastrais

#1.1

21/02/2017

RPI 2407

Monitoramento de patentes

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