111
Recorrente: O depositante. @Despacho: Recurso conhecido e negado provimento. Mantido o indeferimento do pedido. [111]
26/03/2024
RPI 2777
Dados do pedido
Número
112014012354Tipo
Depósito
Publicação
PCT
JP2012007467 Pedido indeferido em 26/03/2024 e o recurso não mudou a decisão. A invenção não chegou a patente e a tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 26/03/2024. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes
T. T. (pessoa física)
JP
TOSHIBA MITSUBISHI-ELECTRIC INDUSTRIAL SYSTEMS CORPORATION
JP
Inventores
A. K. (pessoa física)
JP
H. I. (pessoa física)
JP
K. H. (pessoa física)
JP
S. Y. (pessoa física)
JP
T. Y. (pessoa física)
JP
Y. T. (pessoa física)
JP
Classificação IPC
Prioridades unionistas
JP
2011-258147 · 25/11/2011
Resumo técnico
DISPOSITIVO DE MEDIÇÃO DE DISTRIBUIÇÃO DE POTENCIAL DE SUPERFÍCIE E MÉTODO DE MEDIÇÃO DE DISTRIBUIÇÃO DE POTENCIAL DE SUPERFÍCIE. Em um dispositivo de medição de distribuição de potencial de superfície (1) para sistema de redução de campo elétrico (3) de uma máquina elétrica giratória, um cristal Pockels (25) é usado entre um laser (21) e a superfície (local de teste (L)) do sistema de redução de campo elétrico (3). Assim, a intensidade de luz de um feixe laser refletido em um espelho (24) fornecido entre o cristal Pockels (23) e o local de teste (L) corresponde a uma tensão de saída que é a diferença de tensão entre as primeira e segunda superfícies de extremidade do cristal Pockels. Mesmo quando uma tensão de inversor é gerada, usando-se detector de luz (25) tendo uma faixa de frequência capaz de seguir componentes de alta frequência da tensão de pulso do inversor, intensidade de luz é detectada pelo detector de luz. Portanto, da intensidade de luz (tensão de saída), o dispositivo de medição (1) pode medir o potencial de superfície do sistema de redução de campo elétrico (3) no qual uma tensão de pulso do inversor é gerada.
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
Recorrente: O depositante. @Despacho: Recurso conhecido e negado provimento. Mantido o indeferimento do pedido. [111]
26/03/2024
RPI 2777
#12.2
Recurso: 870210088424 - 24/09/2021
05/10/2021
RPI 2648
#9.2
03/08/2021
RPI 2639
#15.35
01/06/2021
RPI 2630
#7.1
09/03/2021
RPI 2618
#6.21
22/10/2019
RPI 2546
#6.6.1
04/12/2018
RPI 2500
#1.3.1
Retificação do despacho 1.3 publicado na RPI nº 2423 para inclusão da informação que tal despacho referiu-se a publicação automática da admissibilidade da fase nacional depositado via PCT . Tratado de cooperação em matéria de Patentes, conforme Instrução Normativa nº 02, de 06/06/2017 publicada na RPI nº 2422, de 06/06/2017.
20/06/2017
RPI 2424
#1.3
13/06/2017
RPI 2423
#1.1
19/08/2014
RPI 2276
Do mesmo titular
Da mesma categoria
Monitoramento de patentes
Receba alertas de despachos, decisões e vencimentos do INPI para o seu portfólio.