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Dado oficial do INPI

DISPOSITIVO FERROELÉTRICO DE GRAFENO E CONTROLE OPTO-ELETRÔNICO DE DISPOSITIVO DE MEMÓRIA FERROELÉTRICO DE GRAFENO

ArquivadaPatente de InvençãoPCT · SG2012000366

Dados do pedido

Número

112014007724

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

01/10/2012

Publicação

04/04/2017

PCT

SG2012000366

Andamento no INPI

  1. Depósito01/10/12
  2. Publicação04/04/17
  3. Arquivado
  4. Deferimento
  5. Concessão
  6. Em vigor

Pedido arquivado: o exame técnico não foi requerido nos 36 meses seguintes ao depósito de 01/10/2012, prazo do art. 33 da LPI. A tecnologia está em domínio público no Brasil.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 20/06/2017. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

N. S. (pessoa física)

SG

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Inventores

B. O. (pessoa física)

SG

C. T. (pessoa física)

SG

M. J. (pessoa física)

SG

O. K. (pessoa física)

SG

S. S. (pessoa física)

SG

Dados técnicos

Prioridades unionistas

US

61/540,593 · 29/09/2011

US

61/569,357 · 12/12/2011

Resumo técnico

ABSTRACT OF THE DISCLOSURE In accordance with an embodiment of the invention, there is provided a graphene ferroelectric device. The device comprises a graphene transistor channel and a ferroelectric gate of the graphene transistor channel, the ferroelectric gate comprising a linear polarization at a first applied gate voltage less than a threshold voltage, and a hysteretic polarization at a second applied gate voltage greater than the threshold voltage. The device may be configured to undergo optical switching of the graphene transistor channel between a high resistance state and a low resistance state in response to photoillumination of the device. TRADUÇÃO DO RESUMORESUMOPatente de Invenção: "DISPOSITIVO FERROELÉTRICO DE GRAFENO E CONTROLE OPTO-ELETRÔNICO DE DISPOSITIVO DE MEMÓRIA FERROELÉTRICO DE GRAFENO". Em conformidade com uma forma de realização da invenção, é fornecido um dispositivo ferroelétrico de grafeno. O dispositivo é caracterizado pelo fato de que compreende um canal de transístor de grafeno e uma porta ferroelétrica de canal de transístor de grafeno, sendo a porta ferroelétrica caracterizada pelo fato de que compreende uma polarização linear em uma tensão de porta aplicada pela primeira vez menor do que uma tensão limite, e uma polarização histerética em uma tensão de porta aplicada pela segunda vez maior do que tensão limite. O dispositivo ferroelétrico pode ser configurado para passar por comutação óptica do canal de transístor de grafeno entre um estado de alta resistência e um estado de baixa resistência em resposta à fotoiluminação do dispositivo.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Arquivamento definitivo - Art. 33 da LPI

#11.1.1

20/06/2017

RPI 2424

Arquivamento - Art. 33 da LPI

#11.1

04/04/2017

RPI 2413

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

04/04/2017

RPI 2413

Alteração de dados cadastrais

#1.1

27/05/2014

RPI 2264

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