Arquivamento definitivo - Art. 33 da LPI
#11.1.1
20/06/2017
RPI 2424
Dados do pedido
Número
112014007724Tipo
Depósito
Publicação
PCT
SG2012000366 Pedido arquivado: o exame técnico não foi requerido nos 36 meses seguintes ao depósito de 01/10/2012, prazo do art. 33 da LPI. A tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 20/06/2017. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes
N. S. (pessoa física)
SG
Inventores
B. O. (pessoa física)
SG
C. T. (pessoa física)
SG
M. J. (pessoa física)
SG
O. K. (pessoa física)
SG
S. S. (pessoa física)
SG
Prioridades unionistas
US
61/540,593 · 29/09/2011
US
61/569,357 · 12/12/2011
Resumo técnico
ABSTRACT OF THE DISCLOSURE In accordance with an embodiment of the invention, there is provided a graphene ferroelectric device. The device comprises a graphene transistor channel and a ferroelectric gate of the graphene transistor channel, the ferroelectric gate comprising a linear polarization at a first applied gate voltage less than a threshold voltage, and a hysteretic polarization at a second applied gate voltage greater than the threshold voltage. The device may be configured to undergo optical switching of the graphene transistor channel between a high resistance state and a low resistance state in response to photoillumination of the device. TRADUÇÃO DO RESUMORESUMOPatente de Invenção: "DISPOSITIVO FERROELÉTRICO DE GRAFENO E CONTROLE OPTO-ELETRÔNICO DE DISPOSITIVO DE MEMÓRIA FERROELÉTRICO DE GRAFENO". Em conformidade com uma forma de realização da invenção, é fornecido um dispositivo ferroelétrico de grafeno. O dispositivo é caracterizado pelo fato de que compreende um canal de transístor de grafeno e uma porta ferroelétrica de canal de transístor de grafeno, sendo a porta ferroelétrica caracterizada pelo fato de que compreende uma polarização linear em uma tensão de porta aplicada pela primeira vez menor do que uma tensão limite, e uma polarização histerética em uma tensão de porta aplicada pela segunda vez maior do que tensão limite. O dispositivo ferroelétrico pode ser configurado para passar por comutação óptica do canal de transístor de grafeno entre um estado de alta resistência e um estado de baixa resistência em resposta à fotoiluminação do dispositivo.
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
#11.1.1
20/06/2017
RPI 2424
#11.1
04/04/2017
RPI 2413
#1.3
04/04/2017
RPI 2413
#1.1
27/05/2014
RPI 2264
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