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Dado oficial do INPI

RESINA ABSORVENTE DE ÁGUA, SEU PROCESSO DE PRODUÇÃO E MATERIAL DE HIGIENE

ExtintaPatente de InvençãoPCT · JP2012056300

Dados do pedido

Número

112013019831

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

12/03/2012

Publicação

17/11/2020

PCT

JP2012056300

Andamento no INPI

  1. Depósito12/03/12
  2. Publicação17/11/20
  3. Exame
  4. Deferimento15/06/21
  5. Concessão17/08/21
  6. Extinto26/05/26

Patente concedida em 17/08/2021 e depois extinta em 26/05/2026. A proteção terminou antes do prazo e a tecnologia está em domínio público no Brasil.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 26/05/2026. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

SUMITOMO SEIKA CHEMICALS CO., LTD.

JP

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Inventores

A. W. (pessoa física)

JP

K. K. (pessoa física)

JP

N. H. (pessoa física)

JP

Dados técnicos

Prioridades unionistas

JP

2011-070727 · 28/03/2011

Resumo técnico

PROCESSO DE PRODUÇÃO DE RESINA ABSORVENTE DE ÁGUA.A presente invenção refere-se a um método para a produção de uma resina absorvente de água que inclui uma etapa de polimerização da polimerização de um componente contendo um monômero polimerizável etilenicamente não saturado, solúvel em água, dissolvido em água, usando um tipo de iniciador de polimerização de radical azo solúvel em água com a finalidade de se obter um sistema de reação incluindo um absorvente de água precursor de resina, e uma etapa de desidratação de remoção da água a partir do sistema de reação por meio do aquecimento. Na etapa de desidratação, um iniciador de polimerização por meio dos radicais solúveis em água é adicionado ao sistema de reação a qualquer primeira etapa de desidratação, quando a taxa de água residual, calculada pela fórmula (1) é de 50% ou mais, e uma substância de redução é adicionada à reação sistema em qualquer segunda etapa de desidratação, quando a taxa de água residual diminui a partir da primeira fase de desidratação por 10% ou mais. De acordo com este método de produção, uma resina absorvente de água com uma capacidade de absorção de água satisfatória pode ser produzida, enquanto suprime o teor de monômeros residuais.(Taxa de água residual (%))(Massa de água remanescente no sistema de reação)x100(Massa de monômero não saturado etilenicamente solúvel em água usado na etapa de polimerização)

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Manutenção da Extinção - Art. 78 inciso IV da LPI

#24.10

Em virtude da extinção publicada na RPI 2870 de 06-01-2026 e considerando ausência de manifestação dentro dos prazos legais, informo que cabe ser mantida a extinção da patente e seus certificados, conforme o disposto no artigo 12, da resolução 113/2013.

26/05/2026

RPI 2890

Extinção para fins de restauração (art. 87)

#21.6

Referente à 14ª anuidade.

06/01/2026

RPI 2870

Concessão da patente

#16.1

20 (vinte) anos contados a partir de 12/03/2012, observadas as condições legais

17/08/2021

RPI 2641

Deferimento

#9.1

15/06/2021

RPI 2632

Conhecimento de parecer técnico

#7.1

23/02/2021

RPI 2616

Exigência preliminar

#6.21

08/12/2020

RPI 2605

Notificação de acesso ao patrimônio genético

#6.6.1

01/12/2020

RPI 2604

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

17/11/2020

RPI 2602

Alteração de dados cadastrais

#1.1

07/01/2014

RPI 2244

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