Adição na publicação
#15.35
08/06/2021
RPI 2631
Dados do pedido
Número
112013015637Tipo
Depósito
Publicação
PCT
JP2011080399 Pedido arquivado por falta de pagamento das anuidades (art. 86 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 08/06/2021. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes
K. K. (pessoa física)
JP
Inventores
A. S. (pessoa física)
JP
E. M. (pessoa física)
JP
H. T. (pessoa física)
JP
M. S. (pessoa física)
JP
M. N. (pessoa física)
JP
M. T. (pessoa física)
JP
Classificação IPC
Prioridades unionistas
JP
2010-293651 · 28/12/2010
Resumo técnico
MÉTODO PARA PRODUZIR UM CORPO DE PLÁSTICO MOLDADO DE BARREIRA DE GÁS AO FORMAR UMA PELÍCULA FINA DE BARREIRA DE GÁS SOBRE A SUPERFÍCIE DE UM CORPO DE PLÁSTICO MOLDADO É provido um método para produzir um corpo de plástico moldado de barreira de gás ao formar um película fina de barreira de gás que é substancialmente incolor e possua propriedades de barreira de gás, sobre a superfície de um corpo de plástico moldado por um método de CVD de elemento de aquecimento, utilizando somente gases de matéria-prima que são altamente seguros. O método para produzir um corpo de plástico moldado de barreira de gás de acordo com a presente invenção é um método para produzir um corpo de plástico moldado de barreira de gás (90) ao formar uma película fina de barreira de gás (92) sobre a superfície de um corpo de plástico moldado (91), o método compreendendo: um processo de formação de película no qual a película fina de barreira de formação de película no qual a película fina de barreira de gás (92) é formada sobre a superfície do corpo de plástico moldado por um método de CVD de elemento de aquecimento, utilizando um composto à base de organossilano representado pela fórmula (Fórmula Química 1) como um gás de matéria-prima principal, utilizando um gás oxidante como um gás aditivo, e utilizando um elemento de aquecimento contendo tântalo (Ta) como um elemento constituinte principal: (Fórmula Química 1) H~ 3~Si-Cn-X em que, na Fórmula Química 1, n representa 2 ou 3; e X representa SiH~ 3~, H ou NH~ 2~.
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
#15.35
08/06/2021
RPI 2631
#8.11
Em virtude do arquivamento publicado na RPI 2443 de 31-10-2017 e considerando ausência de manifestação dentro dos prazos legais, informo que cabe ser mantido o arquivamento do pedido de patente, conforme o disposto no artigo 12, da resolução 113/2013.
20/02/2018
RPI 2459
#8.6
Referente à 6ª anuidade.
31/10/2017
RPI 2443
#1.3
11/10/2016
RPI 2388
#1.1
07/01/2014
RPI 2244
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