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Dado oficial do INPI

APARELHO DE EMISSÃO DE LUZ SEMICONDUTOR DO GRUPO NITRETO

ConcedidaPatente de InvençãoPCT · JP2011073583

Dados do pedido

Número

112013014356

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

13/10/2011

Publicação

27/09/2016

PCT

JP2011073583

Andamento no INPI

  1. Depósito13/10/11
  2. Publicação27/09/16
  3. Exame
  4. Deferimento08/12/20
  5. Concessão12/01/21
  6. Em vigor13/10/31

Patente concedida em 12/01/2021 e em vigor até 13/10/2031. Até lá, ninguém pode fabricar, usar ou vender a invenção no Brasil sem autorização do titular.

Proteção válida até:13/10/2031

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Última movimentação publicada pelo INPI: 12/01/2021. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

N. C. (pessoa física)

JP

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Inventores

H. N. (pessoa física)

JP

M. O. (pessoa física)

JP

S. B. (pessoa física)

JP

Y. M. (pessoa física)

JP

Dados técnicos

Classificação IPC

Prioridades unionistas

JP

2010-274125 · 08/12/2010

Resumo técnico

APARELHO DE EMISSÃO DE LUZ SEMICONDUTOR DO GRUPO NITRETOA invenção se refere a um eletrodo apresentado e que tem refletividade melhorada destinada à melhoria da eficácia na emissão de luz. O apareho de emissão de luz semicondutor do grupo nitreto inclui uma camada semicondutora do grupo nitreto e uma estrutura de eletrodo. A estrutura de eletrodo é disposta sobre ou acima da camada semicondutora e inclui uma pluralidade de camadas de metal depositadas. A pluralidade das camadas de metal depositadas da estrutura do eletrodo inclui a primeira e segunda camada de metal. A primeira camada de metal é disposta no lado da camada semicondutora. A segunda camada de metal é disposta sobre ou acima da primeira camada de metal. A primeira camada de metalcontém Cr e o primeiro material de metal. O primeiro material de metal tem refletividade superior a do Cr no pico d comprimento de onda que emite luz do aparelho de emissão de luz. De acordo com esta construção, a primeira camada de metal pode ter refletividade superior, em comparação à primeira camada de metal que é formada somente por C, podendo, porém, manter contato direto com a camada semicondutora.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Concessão da patente

#16.1

20 (vinte) anos contados a partir de 13/10/2011, observadas as condições legais

12/01/2021

RPI 2610

Deferimento

#9.1

08/12/2020

RPI 2605

Exigência preliminar

#6.21

15/10/2019

RPI 2545

Notificação de acesso ao patrimônio genético

#6.6.1

26/12/2018

RPI 2503

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

27/09/2016

RPI 2386

Alteração de dados cadastrais

#1.1

22/03/2016

RPI 2359

Monitoramento de patentes

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