Alteração de nome deferida
#25.4
25/11/2025
RPI 2864
Dados do pedido
Número
112012033245Tipo
Depósito
Publicação
PCT
US2011041611 Patente concedida em 26/12/2017 e em vigor até 23/06/2031. Até lá, ninguém pode fabricar, usar ou vender a invenção no Brasil sem autorização do titular.
Proteção válida até:23/06/2031
Última movimentação publicada pelo INPI: 25/11/2025. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes
CHENANGO TWO LLC
US
CHENANGO ZERO LLC
US
CURRAHEE HOLDING COMPANY INC.
US
JOHNSON & JOHNSON CONSUMER COMPANIES, INC
US
JOHNSON & JOHNSON CONSUMER COMPANIES, LLC
US
JOHNSON & JOHNSON CONSUMER INC.
US
KENVUE BRANDS LLC.
US
MCNEIL-PPC, INC.
US
Inventores
E. G. (pessoa física)
US
K. L. (pessoa física)
US
L. G. (pessoa física)
US
M. M. (pessoa física)
US
R. W. (pessoa física)
US
Classificação IPC
Prioridades unionistas
US
12/822,239 · 24/06/2010
US
12/976,573 · 22/12/2010
US
13/166,445 · 22/06/2011
Resumo técnico
COMPOSIÇÕES PARA LIMPEZA LÍMPIDA, DE BAIXA IRRITAÇÃO, COM PH RELATIVAMENTE BAIXO. A presente invenção refere-se a métodos e composições da presente invenção que referem-se ás composições que têm características de baixa irritação em combinação com uma ou mais características adicionais, por exemplo, claridade relativamente alta, formação de espuma relativamente elevada e/ou combinações dos mesmos, assim como métodos de preparo e uso de tais composições. Estas composições contêm blendas de tensoativos anfotéricos, têm valores baixos de pH e são úteis na limpeza da pele.
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
#25.4
25/11/2025
RPI 2864
#25.7
11/11/2025
RPI 2862
#25.4
05/03/2024
RPI 2774
#25.1
20/02/2024
RPI 2772
#25.4
30/08/2022
RPI 2695
#25.1
16/08/2022
RPI 2693
#25.1
02/08/2022
RPI 2691
#25.1
19/07/2022
RPI 2689
#25.4
05/07/2022
RPI 2687
#25.1
28/06/2022
RPI 2686
#25.1
21/06/2022
RPI 2685
#25.7
14/06/2022
RPI 2684
#16.1
26/12/2017
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#9.1
28/11/2017
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#7.1
04/07/2017
RPI 2426
#1.3
30/08/2016
RPI 2382
#1.1
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