Alteração de nome deferida
#25.4
25/11/2025
RPI 2864
Dados do pedido
Número
112012032979Tipo
Depósito
Publicação
PCT
US2011041604 Patente concedida em 19/12/2017 e em vigor até 23/06/2031. Até lá, ninguém pode fabricar, usar ou vender a invenção no Brasil sem autorização do titular.
Proteção válida até:23/06/2031
Última movimentação publicada pelo INPI: 25/11/2025. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes
CHENANGO TWO LLC
US
CHENANGO ZERO LLC
US
CURRAHEE HOLDING COMPANY INC.
US
JOHNSON & JOHNSON CONSUMER COMPANIES, INC.
US
JOHNSON & JOHNSON CONSUMER COMPANIES, LLC
US
JOHNSON & JOHNSON CONSUMER INC.
US
KENVUE BRANDS LLC.
US
MCNEIL-PPC, INC.
US
Inventores
E. G. (pessoa física)
US
K. L. (pessoa física)
US
L. G. (pessoa física)
US
R. W. (pessoa física)
US
Classificação IPC
Prioridades unionistas
US
12/822,329 · 24/06/2010
US
12/976,573 · 22/12/2010
Resumo técnico
COMPOSIÇÃO PARA LIMPEZA LÍMPIDA, DE BAIXA IRRITAÇÃO, E COM PH RELATIVAMENTE BAIXO. A presente invenção refere-se aos métodos e composições da presente invenção que referem-se às composições tendo características de baixa irritação em combinação com uma ou mais características adicionais, por exemplo, claridade relativamente alta, formação de espuma relativamente elevada e/ou combinações das mesmas, assim como os métodos de preparo e uso de tais composições. Essas composições têm valores de pH baixos e são úteis na limpeza da pele.
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
#25.4
25/11/2025
RPI 2864
#25.7
11/11/2025
RPI 2862
#25.4
05/03/2024
RPI 2774
#25.1
20/02/2024
RPI 2772
#25.4
30/08/2022
RPI 2695
#25.1
16/08/2022
RPI 2693
#25.1
02/08/2022
RPI 2691
#25.1
19/07/2022
RPI 2689
#25.4
05/07/2022
RPI 2687
#25.1
28/06/2022
RPI 2686
#25.1
21/06/2022
RPI 2685
#25.7
14/06/2022
RPI 2684
#16.1
19/12/2017
RPI 2450
#9.1
29/08/2017
RPI 2434
#7.1
27/06/2017
RPI 2425
#1.3
30/08/2016
RPI 2382
#1.1
31/12/2013
RPI 2243
Do mesmo titular
Da mesma categoria
Monitoramento de patentes
Receba alertas de despachos, decisões e vencimentos do INPI para o seu portfólio.