(11) 98705-3426
TrademarkIQ íconeTrademarkIQ
Voltar para busca
Dado oficial do INPI

MÉTODO E DISPOSITIVO PARA CONTROLE DE RAZÃO DE GÁS DE MÁQUINA DE RESPIRAÇÃO

ArquivadaPatente de InvençãoPCT · CN2011084698

Dados do pedido

Número

112012032964

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

26/12/2011

Publicação

22/11/2016

PCT

CN2011084698

Andamento no INPI

  1. Depósito26/12/11
  2. Publicação22/11/16
  3. Arquivado
  4. Deferimento
  5. Concessão
  6. Em vigor

Pedido arquivado: a exigência técnica do INPI não foi cumprida no prazo (art. 36 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.

Falar com um especialista

Última movimentação publicada pelo INPI: 17/12/2019. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

BEIJING AEONMED CO., LTD

CN

Ver toda a carteira desta empresa

Inventores

W. J. (pessoa física)

CN

Dados técnicos

Classificação IPC

Prioridades unionistas

CN

201010620699.3 · 31/12/2010

Resumo técnico

MÃTODO E DISPOSITIVO PARA CONTROLE DE RAZÃO DE GÃS DE MÃQUINA DE RESPIRAÃÃO; o método compreende: obtenção de uma relação de taxa de fluxo de abertura de uma válvula de razão de ar e uma válvula de razão de oxigênio de máquina de respiração; b: controle da válvula de razão de ar e da válvula de razão de oxigênio de acordo com as relações de taxa de fluxo de abertura e um valor pré-ajustado de concentração de oxigênio; e c: regulação fina da válvula de razão de ar e da válvula de razão de oxigênio de acordo com um valor corrente de concentração de oxigênio e o valor pré-ajustado de concentração de oxigênio. O dispositivo de controle compreende: um modulo de aquisição (401), configurado para adquirir a relação de taxa de fluxo de abertura de uma válvula de razão de ar e uma válvula de razão de oxigênio da máquina de respiração; um módulo de controle (403), configurado para controlar a válvula de razão de ar e a válvula de razão de oxigênio; e um módulo de regulação fina (405), configurado para regular de modo fino a válvula de razão de ar e a válvula de razão de oxigênio. Através do método e do dispositivo, a concentração de oxigênio do gás pode ser monitorada em tempo real, de forma a executar o controle de loop duplo na concentração de oxigênio, de forma que a concentração de oxigênio do gás provido seja a mesma que a concentração ajustada de oxigênio, melhorando assim a precisão do controle de mistura de oxigênio.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Arquivamento - Art. 36 §1° da LPI

#11.2

17/12/2019

RPI 2554

Exigência preliminar

#6.21

03/09/2019

RPI 2539

Notificação de acesso ao patrimônio genético

#6.6.1

18/12/2018

RPI 2502

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

22/11/2016

RPI 2394

Alteração de dados cadastrais

#1.1

24/04/2013

RPI 2207

Monitoramento de patentes

Acompanhe esta patente em tempo real.

Receba alertas de despachos, decisões e vencimentos do INPI para o seu portfólio.