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Dado oficial do INPI

''MÉTODO PARA REVESTIMENTO DE UM OU MAIS LADOS DE SUBSTRATOS COM MATERIAL CATALITICAMENTE ATIVO E REVESTIMENTO DE SUBSTRATO''

IndeferidaPatente de InvençãoPCT · EP2011002551

Dados do pedido

Número

112012031263

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

23/05/2011

Publicação

01/11/2016

PCT

EP2011002551

Andamento no INPI

  1. Depósito23/05/11
  2. Publicação01/11/16
  3. Exame
  4. Indeferido17/11/20
  5. Concessão
  6. Em vigor

Pedido indeferido em 17/11/2020 e o recurso não mudou a decisão. A invenção não chegou a patente e a tecnologia está em domínio público no Brasil.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 17/11/2020. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

THYSSENKRUPP UHDE GMBH

DE

Ver toda a carteira desta empresa

Inventores

C. S. (pessoa física)

DE

D. H. (pessoa física)

DE

F. F. (pessoa física)

DE

K. D. (pessoa física)

DE

P. W. (pessoa física)

DE

P. H. (pessoa física)

DE

S. O. (pessoa física)

DE

U. B. (pessoa física)

DE

Dados técnicos

Prioridades unionistas

DE

102010023418.4 · 11/06/2010

Resumo técnico

MÃTODO PARA REVESTIMENTO DE UM OU MAIS LADOS DE SUBSTRATOS COM MATERIAL CATALITICAMENTE ATIVO E REVESTIMENTO DE SUBSTRATO. Trata-se de revestimento de substrato em um ou mais lados que compreende material cataliticamente ativo que pode ser produzido por um método que compreende depósito de material sob vácuo em uma câmara de vácuo, em que as seguintes etapas são realizadas: (a) carregar a câmara de vácuo com, pelo menos, um substrato, (b) fechar e evacuar a câmara de vácuo, (c) limpar o substrato por meio de introdução de um agente de redução gasoso na câmara de vácuo, (d) remover o agente de redução gasoso, (e) aplicar uma camada intermediária por meio de evaporação de arco de vácuo, em que um substrato que compreende o mesmo material ou similar é introduzido na câmara de vácuo, (f) definir a câmara de vácuo a uma temperatura de 150ºC a 400ºC, (g) aplicar um revestimento por meio de evaporação de arco de vácuo, em que, pelo menos, um metal tomado a partir do grupo rutênio, irídio, titânio e misturas dos mesmos é introduzido na câmara de vácuo e oxigênio é suprido por todo o período de revestimento, (h) em uma última etapa, a câmara de vácuo é reinundada e o substrato revestido é removido da câmara, em que as etapas supracitadas e as transições de uma etapa à respectiva etapa seguinte são realizadas no vácuo em diferentes pressões, se apropriado, as quais são definidas por meio de um gás protetor, caracterizado em que pelo menos, 99% do revestimento de substrato em um ou mais lados é mantido livre de constituintes inicialmente contidos no próprio substrato, em que, pelo menos, 99% do revestimento aplicado à camada intermediária é mantido livre de metais não oxidados.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Indeferimento mantido em recurso

#9.2.4

MANTIDO O INDEFERIMENTO UMA VEZ QUE NÃO FOI APRESENTADO RECURSO DENTRO DO PRAZO LEGAL

17/11/2020

RPI 2602

Indeferimento

#9.2

23/06/2020

RPI 2581

Conhecimento de parecer técnico

#7.1

31/12/2019

RPI 2556

6.20

06/03/2019

RPI 2513

Notificação de acesso ao patrimônio genético

#6.6.1

10/04/2018

RPI 2466

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

01/11/2016

RPI 2391

Alteração de dados cadastrais

#1.1

24/04/2013

RPI 2207

Monitoramento de patentes

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