Dados do pedido
Número
112012020509Tipo
Depósito
Publicação
PCT
JP2011052995 Patente concedida em 23/01/2018 e depois extinta em 26/03/2024. A proteção terminou antes do prazo e a tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 26/03/2024. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes
Nippon Soda Co., Ltd.
JP
Inventores
H. N. (pessoa física)
JP
I. U. (pessoa física)
JP
S. I. (pessoa física)
JP
Y. M. (pessoa física)
JP
Classificação IPC
Prioridades unionistas
JP
2010-043348 · 26/02/2010
Resumo técnico
DERIVADO DE TETRAZOLILOXIMA,E, FUNGICIDA. Revela-se um derivado de tetrazoliloxima e um sal do mesmo que tem um excelente efeito antagônico em relação à doença de planta. Revela-se adicionalmente um germicida. O germicida contém, como um ingrediente ativo, pelo menos um composto selecionado do derivado de tetrazoliloxima representado pela fórmula (6) e um sal do mesmo. Na fórmula (6), X representa um átomo de halogênio ou análogo. A representa um grupo tetrazolila, R representa um átomo de halogênio ou semelhante, D representa uma ligação simples ou um átomo de oxigênio, e representa uma ligação simples ou uma cadeia alquileno, R^ 2a^ e R^ 2b^ cada um, representam independentemente um grupo alcóxi ou semelhante, e R^ 3^ representa um átomo de hidrogênio ou um grupo alquila.
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
#24.10
Em virtude da extinção publicada na RPI 2761 de 05-12-2023 e considerando ausência de manifestação dentro dos prazos legais, informo que cabe ser mantida a extinção da patente e seus certificados, conforme o disposto no artigo 12, da resolução 113/2013.
26/03/2024
RPI 2777
#21.6
Referente à 13ª anuidade.
05/12/2023
RPI 2761
#16.1
23/01/2018
RPI 2455
#9.1
14/11/2017
RPI 2445
#15.11
As Classificações Anteriores eram: C07D 401/12 , A01N 43/713 , C07D 401/14 , C07D 405/14 , C07D 409/14 , A01P 3/00
22/08/2017
RPI 2433
#7.1
08/08/2017
RPI 2431
#6.6
20/09/2016
RPI 2385
#1.3
21/06/2016
RPI 2372
#1.1
09/07/2013
RPI 2218
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