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Dado oficial do INPI

INTERMEDIÁRIO SINTÉTICO DE COMPOSTO DE OXAZOL E MÉTODO PARA PRODUZIR O MESMO

Arquivada/ExtintaPatente de InvençãoPCT · JP2011052307

Dados do pedido

Número

112012018069

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

28/01/2011

Publicação

23/02/2016

PCT

JP2011052307

Andamento no INPI

  1. Depósito28/01/11
  2. Publicação23/02/16
  3. Arquivado
  4. Deferimento
  5. Concessão
  6. Em vigor

Pedido arquivado por falta de pagamento das anuidades (art. 86 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 14/03/2017. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

OTSUKA PHARMACEUTICAL CO., LTD

JP

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Inventores

A. Y. (pessoa física)

JP

K. S. (pessoa física)

JP

N. U. (pessoa física)

JP

N. F. (pessoa física)

JP

S. A. (pessoa física)

JP

S. O. (pessoa física)

JP

Dados técnicos

Prioridades unionistas

JP

2010-019289 · 29/01/2010

Resumo técnico

Patente de Invenção: "INTERMEDIÁRIO SINTÉTICO DE COMPOSTO DE OXAZOL E MÉTODO PARA PRODUZIR O MESMO".A presente invenção refere-se a um método para produzir um composto de oxazol em um alto rendimento.O objetivo pode ser alcançado por um composto representado pela Fórmula (11):>onde R¹ é um átomo de hidrogênio ou grupo alquila inferior;R² é um grupo 1-piperidinila substituído na posição 4 por um substituite selecionado a partir de:(A1a) um grupo fenoxi substituído na porção fenila por um ou mais grupos alcóxi inferior substituídos por halogênio,(A1b) um grupo alquila inferior substituído por fenóxi substituído na porção fenila por um ou mais grupos alquila inferior substituídos por halogênio,(A1c) um grupo alquila inferior alcóxi inferior substituído por fenila substituído na porção fenila por halogênio,(A1d) um grupo alquila inferior substituído por fenila substituído na porção fenila por um ou mais grupos alcóxi inferior substituídos por halogênio,(A1e) um grupo amino substituído por um grupo fenila substituído por um ou mais grupos alcóxi inferior substituídos por halogênio, e um grupo alquila inferior, e(A1f) um grupo alcóxi inferior substituído por fenila substituído na porção fenila por um ou mais grupos alcóxi inferior substituídos por halogênio;n é um inteiro de 1 a 6; eX³ é um grupo sulfonilóxi orgânico.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Arquivamento definitivo por descumprimento

#8.11

Em virtude do arquivamento publicado na RPI 2395 de 29-11-2016 e considerando ausência de manifestação dentro dos prazos legais, informo que cabe ser mantido o arquivamento do pedido de patente, conforme o disposto no artigo 12, da resolução 113/2013.

14/03/2017

RPI 2410

Arquivamento por falta de pagamento

#8.6

Referente à 6ª anuidade.

29/11/2016

RPI 2395

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

23/02/2016

RPI 2355

Alteração de dados cadastrais

#1.1

18/12/2012

RPI 2189

Monitoramento de patentes

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