Publicação do pedido de patente
#3.1
04/11/2025
RPI 2861
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Dado oficial do INPI
PROCESSO DE OBTENÇÃO DE SILICATO TRICÁLCICO NANOESTRUTURADO DE ELEVADA PUREZA
PublicadaPatente de Invenção
Dados do pedido
Número
102024008505Tipo
Patente de Invenção
Depósito
30/04/2024
Publicação
04/11/2025
Andamento no INPI
Exame ainda não requerido- Depósito30/04/24
- Publicação04/11/25
- Exame
- Deferimento
- Concessão
- Em vigor
O exame técnico ainda não foi requerido. Sem esse requerimento até 30/04/2027, o pedido é arquivado em definitivo (art. 33 da LPI).
Prazo para requerer o exame:30/04/2027(faltam 249 dias)
Última movimentação publicada pelo INPI: 04/11/2025. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes e inventores
Depositantes
FUNDAÇÃO EDUCACIONAL DE CRICIÚMA - FUCRI
SC, BR
Inventores
A. V. (pessoa física)
BR
F. R. (pessoa física)
BR
G. B. (pessoa física)
BR
O. M. (pessoa física)
BR
S. A. (pessoa física)
BR
T. W. (pessoa física)
BR
Dados técnicos
Classificação IPC
Resumo técnico
PROCESSO DE OBTENÇÃO DE SILICATO TRICÁLCICO NANOESTRUTURADO DE ELEVADA PUREZAÉ descrito um processo de obtenção de silicato tricálcico nanoestruturado de elevada pureza (99,2%), via síntese à combustão, em etapa única, com reduzida presença de fases secundárias, apresentando área superficial com grande potencial de aplicação como um cimento endodôntico.
Histórico de despachos
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
Pedido de patente depositado
#2.1
09/07/2024
RPI 2792
Requerimento de pedido de patente
#2.10
Número de Protocolo '870240036713' em 30/04/2024 10:50 (WB)
14/05/2024
RPI 2784
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