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Dado oficial do INPI

COMPLEXOS DE RUTÊNIO E SEU EFEITO INDIVIDUAL E COMBINADO A ANTIBIÓTICOS SOBRE BACTÉRIAS DE INTERESSE CLÍNICO

PublicadaPatente de Invenção

Dados do pedido

Número

102019024869

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

26/11/2019

Publicação

08/06/2021

Andamento no INPI

  1. Depósito26/11/19
  2. Publicação08/06/21
  3. Exame
  4. Deferimento
  5. Concessão
  6. Em vigor

Pedido publicado na RPI em 08/06/2021 e já visível a qualquer interessado. Segue para o exame técnico do INPI.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 08/06/2021. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

U. C. (pessoa física)

CE, BR

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Inventores

A. A. (pessoa física)

BR

A. G. (pessoa física)

BR

E. T. (pessoa física)

BR

E. S. (pessoa física)

BR

F. A. (pessoa física)

BR

J. C. (pessoa física)

BR

L. L. (pessoa física)

BR

M. V. (pessoa física)

BR

Dados técnicos

Classificação IPC

Resumo técnico

COMPLEXOS DE RUTÊNIO E SEU EFEITO INDIVIDUAL E COMBINADO A ANTIBIÓTICOS SOBRE BACTÉRIAS DE INTERESSE CLÍNICO. A presente invenção, objeto de pedido de patente, trata-se de três complexos de rutênio designados cis-[RuCl 2 (dppb)(NN)] 2+ ,cis-[RuCl 2 (dppb)(NN-F)] 2+ , cis-[RuCl 2 (dppb)(NN-Br)] 2+ , e seu efeito como agente antibacteriano, antibiofilme e combinado a antibióticos sobre bactérias do gênero Staphylococcus, que estão envolvidas em infecções nosocomiais. Este produto tem aplicação na área microbiológica, uma vez que exerce acão bactericida e bacteriostática sobre bactérias na forma planctônica,apresentou efeito sinérgico quando combinado a antibióticos sobre bactérias até então resistentes, e redução na formação de biofilmes e no número de células viáveis. Estes complexos podem ser utilizados como insumos pela indústria farmacêutica para produção de quimioterápicos antimicrobianos, visando o tratamento de infecções nosocomiais causadas por bactérias resistentes aos antibióticos clássicos, como também na produção de agentes descontaminantes e desinfectantes de áreas e ambientes.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Publicação do pedido de patente

#3.1

08/06/2021

RPI 2631

Pedido de patente depositado

#2.1

22/04/2020

RPI 2572

Exigência - art. 21 da LPI

#2.5

27/02/2020

RPI 2564

Requerimento de pedido de patente

#2.10

Número de Protocolo '870190123434' em 26/11/2019 11:46 (WB)

03/12/2019

RPI 2552

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