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Dado oficial do INPI

IMPLANTE ORBITAL COMPREENDENDO JANELAS ATRAVESSANTES PARA SUTURAS

ArquivadaPatente de Invenção

Dados do pedido

Patente de Invenção IMPLANTE ORBITAL COMPREENDENDO JANELAS ATRAVESSANTES PARA SUTURAS de FRANCE CHIRURGIE INSTRUMENTATION SAS (FCI) — IPC A61F 2/00
Patente de Invenção IMPLANTE ORBITAL COMPREENDENDO JANELAS ATRAVESSANTES PARA SUTURAS de FRANCE CHIRURGIE INSTRUMENTATION SAS (FCI) — IPC A61F 2/00. Figura publicada pelo INPI na Revista da Propriedade Industrial.

Número

102019013165

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

25/06/2019

Publicação

14/01/2020

Andamento no INPI

  1. Depósito25/06/19
  2. Publicação14/01/20
  3. Arquivado
  4. Deferimento
  5. Concessão
  6. Em vigor

Pedido arquivado: o exame técnico não foi requerido nos 36 meses seguintes ao depósito de 25/06/2019, prazo do art. 33 da LPI. A tecnologia está em domínio público no Brasil.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 20/12/2022. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

FRANCE CHIRURGIE INSTRUMENTATION SAS (FCI)

FR

Inventores

A. M. (pessoa física)

FR

Dados técnicos

Classificação IPC

Prioridades unionistas

FR

18 70778 · 29/06/2018

Resumo técnico

IMPLANTE ORBITAL COMPREENDENDO JANELASATRAVESSANTES PARA SUTURAS. Conjunto tendo um implante orbital de forma substancialmente esférica para substituir um globo ocular após enucleação e/ou evisceração, e pelo menos uma sutura, o implante tendo um corpo básico (1) de um material poroso, que, em particular, encoraja a colonização pelos organismos, e um elemento posterior ou traseiro (2) com janelas atravessantes cobrindo parte do corpo básico, um elemento posterior tendo um número de janelas atravessantes para passagem de pontos para sutura dos músculos oculomotores dentro e fora do espaço entre o corpo básico e o elemento posterior, e definindo para o implante de forma substancialmente esférica, um eixo de referência que passa através de seu centro, um eixo vertical Z correspondente ao eixo anterior-posterior, e dois eixos XY no plano equatorial, uma estrutura de referência em relação da qual os ângulos de latitude e longitude de um ponto na superfície do implante são definidos, o ângulo de longitude do polo mais traseiro e posterior sendo 90°, enquanto o ângulo de longitude de um ponto no equador é de 0°, sendo que o elemento (1) com janelas tem pelo menos uma primeira janela atravessante inferior (7), que se estende para uma primeira faixa inferior de longitudes, e pelo menos uma segunda janela superior (9), que se estende para uma segunda faixa superior de longitudes, e pelo menos um meridiano (M) que se estende a partir do equador para o polo que cruza ou passa através das duas janelas inferiores (7) e janelas superiores (9).

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Arquivamento definitivo - Art. 33 da LPI

#11.1.1

20/12/2022

RPI 2711

Arquivamento - Art. 33 da LPI

#11.1

04/10/2022

RPI 2700

Publicação do pedido de patente

#3.1

14/01/2020

RPI 2558

Pedido de patente depositado

#2.1

17/09/2019

RPI 2541

Requerimento de pedido de patente

#2.10

Número de Protocolo '870190058656' em 25/06/2019 14:00 (WB)

02/07/2019

RPI 2530

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