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Dado oficial do INPI

MÉTODO PARA FABRICAR UM DISPOSITIVO EMISSOR DE LUZ

ConcedidaPatente de Invenção

Dados do pedido

Patente de Invenção MÉTODO PARA FABRICAR UM DISPOSITIVO EMISSOR DE LUZ — IPC H01L 33/48
Patente de Invenção MÉTODO PARA FABRICAR UM DISPOSITIVO EMISSOR DE LUZ — IPC H01L 33/48. Figura publicada pelo INPI na Revista da Propriedade Industrial.

Número

102018002785

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

09/02/2018

Publicação

10/09/2019

Andamento no INPI

  1. Depósito09/02/18
  2. Publicação10/09/19
  3. Exame
  4. Deferimento07/03/23
  5. Concessão25/04/23
  6. Em vigor09/02/38

Patente concedida em 25/04/2023 e em vigor até 09/02/2038. Até lá, ninguém pode fabricar, usar ou vender a invenção no Brasil sem autorização do titular.

Proteção válida até:09/02/2038

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Última movimentação publicada pelo INPI: 25/04/2023. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

N. C. (pessoa física)

JP

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Inventores

D. S. (pessoa física)

JP

T. T. (pessoa física)

JP

Dados técnicos

Prioridades unionistas

JP

2017-024482 · 13/02/2017

JP

2017-204140 · 23/10/2017

Resumo técnico

MÉTODO PARA FABRICAR UM DISPOSITIVO EMISSOR DE LUZ, E,DISPOSITIVO EMISSOR DE LUZTrata-se de um método para a fabricação de um dispositivoemissor de luz que inclui: proporcionar uma pastilha que inclui, sucessivamente, a partir de um lado da face superior, uma estrutura de eletrodo que inclui uma fiação multicamada, uma camada semicondutora conectada eletricamente à estrutura de eletrodo e um substrato de crescimento; ligar a pastilhaa um substrato de suporte; expor a camada semicondutora removendo-se osubstrato de crescimento da pastilha; separar a camada semicondutora emuma pluralidade de elementos emissores de luz, o que compreende a formaçãode ranhuras na superfície do lado da camada semicondutora da pastilha; eformar uma camada de fósforo que tem protuberâncias e rebaixos em umasuperfície da mesma, de modo que a camada de fósforo cubra as superfíciesdos elementos emissores de luz que compreende: formar uma película de revestimento sobre superfícies dos elementos emissores de luz aplicando-seuma pasta fluida que compreende partículas de fósforo contidas em um solvente e vaporizando-se o solvente na película de revestimento para formar acamada de fósforo.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Concessão da patente

#16.1

Prazo de Validade: 20 (vinte) anos contados a partir de 09/02/2018, observadas as condições legais

25/04/2023

RPI 2729

Deferimento

#9.1

07/03/2023

RPI 2722

Parecer de pré-exame

#6.23

20/09/2022

RPI 2698

Publicação do pedido de patente

#3.1

10/09/2019

RPI 2540

Pedido de patente depositado

#2.1

25/06/2019

RPI 2529

130

Despacho: Prejudicado o recurso publicado na RPI 2471 de 15/05/2018, por perda de objeto, já que a publicação Numeração Anulada foi anulada (despacho 15.30) por ter sido indevida. [130]

26/02/2019

RPI 2512

15.30

Anulada a publicação código 15.21 na RPI nº 2461 de 06/03/2018 por ter sido indevida.

02/10/2018

RPI 2491

12.6

15/05/2018

RPI 2471

Anulação de numeração

#15.21

Pedido com Numeração Anulada tendo em vista falta de pagamento ou pagamento posterior à data de protocolo da Guia de Recolhimento da União relativa ao serviço solicitado

06/03/2018

RPI 2461

Requerimento de pedido de patente

#2.10

Número de Protocolo '870180011345' em 09/02/2018 11:41 (WB)

20/02/2018

RPI 2459

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