Dados do pedido
Número
102018002779Tipo
Depósito
Publicação
Pedido arquivado por falta de pagamento das anuidades (art. 86 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 22/03/2022. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes
HITACHI, LTD.
JP
Inventores
K. K. (pessoa física)
JP
Y. N. (pessoa física)
JP
Classificação IPC
Prioridades unionistas
JP
2017-026401 · 15/02/2017
Resumo técnico
Um aparelho para tratamento por osmose reversa inclui: uma primeira unidade incluindo uma pluralidade de módulos de membrana de osmose reversa arranjados em paralelo que realizam um tratamento primário em água a ser tratada; e uma pluralidade de segundas unidades que incluem, cada uma, um ou mais módulos de membrana de osmose reversa arranjados em paralelo que realizam um tratamento subsequente em água concentrada separada na primeira unidade. Cada uma das segundas unidades inclui um tubo de fornecimento de água concentrada, um tubo de descarte de água concentrada, uma válvula de tubo de fornecimento, e uma válvula de tubo de descarte. Um método para tratamento por osmose reversa inclui, após realizar os tratamentos subsequentes através de duas ou mais segundas unidades, trocar a segunda unidade que realiza o tratamento subsequente na última etapa.
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
#8.11
Em virtude do arquivamento publicado na RPI 2656 de 30-11-2021 e considerando ausência de manifestação dentro dos prazos legais, informo que cabe ser mantido o arquivamento do pedido de patente, conforme o disposto no artigo 12, da resolução 113/2013.
22/03/2022
RPI 2672
#8.6
Referente à 4ª anuidade.
30/11/2021
RPI 2656
#3.1
30/10/2018
RPI 2495
#2.1
17/07/2018
RPI 2480
#2.10
Número de Protocolo '870180011314' em 09/02/2018 11:24 (WB)
20/02/2018
RPI 2459
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