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Dado oficial do INPI

MÉTODO PARA FABRICAR UMA PLURALIDADE DE ELEMENTOS EMISSORES DE LUZ, E, ELEMENTO EMISSOR DE LUZ

ConcedidaPatente de Invenção

Dados do pedido

Número

102017027106

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

15/12/2017

Publicação

17/07/2018

Andamento no INPI

  1. Depósito15/12/17
  2. Publicação17/07/18
  3. Exame
  4. Deferimento07/11/23
  5. Concessão12/12/23
  6. Em vigor15/12/37

Patente concedida em 12/12/2023 e em vigor até 15/12/2037. Até lá, ninguém pode fabricar, usar ou vender a invenção no Brasil sem autorização do titular.

Proteção válida até:15/12/2037

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Última movimentação publicada pelo INPI: 12/12/2023. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

N. C. (pessoa física)

JP

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Inventores

J. N. (pessoa física)

JP

K. N. (pessoa física)

JP

S. K. (pessoa física)

JP

Y. I. (pessoa física)

JP

Dados técnicos

Prioridades unionistas

JP

2016-243899 · 16/12/2016

JP

2017-171833 · 07/09/2017

Resumo técnico

MÉTODO PARA FABRICAR UMA PLURALIDADE DE ELEMENTOS EMISSORES DE LUZ, E, ELEMENTO EMISSOR DE LUZ. Um método para fabricar uma pluralidade de elementos emissores de luz inclui: prover uma pastilha semicondutora compreendendo: um substrato, uma camada semicondutora de nitreto de lado n contendo uma impureza tipo n e localizada no substrato, e uma camada semicondutora de nitreto de lado p contendo uma impureza tipo p e localizada na camada semicondutora de nitreto de lado n; formar uma camada protetora em uma face superior da camada semicondutora de nitreto de lado p em regiões que incluem limites de áreas para se tornarem a pluralidade de elementos emissores de luz; reduzir uma resistência do semicondutor de nitreto de lado p em áreas onde nenhuma camada protetora foi formada recozendo a pastilha semicondutora; irradiar um feixe de laser no substrato de modo a formar regiões modificadas no substrato; e obter uma pluralidade de elementos emissores de luz dividindo a pastilha semicondutora na qual as regiões modificadas foram formadas no substrato.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Concessão da patente

#16.1

Prazo de Validade: 20 (vinte) anos contados a partir de 15/12/2017, observadas as condições legais

12/12/2023

RPI 2762

Deferimento

#9.1

07/11/2023

RPI 2757

Exigência - art. 36 da LPI

#6.1

11/07/2023

RPI 2740

Parecer de pré-exame

#6.23

07/02/2023

RPI 2718

Publicação do pedido de patente

#3.1

17/07/2018

RPI 2480

Pedido de patente depositado

#2.1

10/04/2018

RPI 2466

Requerimento de pedido de patente

#2.10

Número de Protocolo '870170098225' em 15/12/2017 09:50 (WB)

02/01/2018

RPI 2452

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