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Dado oficial do INPI

PROCESSO DE DEPOSIÇÃO DE NANOFIOS EM UM SUBSTRATO E DISPOSITIVO PARA DEPOSIÇÃO DE NANOFIOS EM UM SUBSTRATO

IndeferidaPatente de Invenção

Dados do pedido

Número

102017026930

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

13/12/2017

Publicação

25/06/2019

Andamento no INPI

Em recurso
  1. Depósito13/12/17
  2. Publicação25/06/19
  3. Exame
  4. Indeferido13/06/23
  5. Concessão
  6. Em vigor

Pedido indeferido pelo INPI em 13/06/2023. A invenção não chegou a ser patenteada.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 13/06/2023. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

UNIÃO BRASILEIRA DE EDUCAÇÃO E ASSISTÊNCIA - MANTENEDORA DA PUCRS

RS, BR

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Inventores

A. F. (pessoa física)

BR

D. E. (pessoa física)

BR

S. F. (pessoa física)

BR

Dados técnicos

Classificação IPC

Resumo técnico

PROCESSO DE DEPOSIÇÃO DE NANOFIOS EM UM SUBSTRATO EDISPOSITIVO PARA DEPOSIÇÃO DE NANOFIOS EM UM SUBSTRATOA presente invenção descreve um processo e um dispositivo dedeposição de nanofios em um substrato. Especificamente, a presente invençãocompreende um processo de deposição de nanofios por meio de vibraçãomecânica e um dispositivo gerador de vibrações para a deposição de nanofiossobre um substrato. Os objetos da presente invenção são capazes de produzirfilmes finos com distribuição homogênea dos nanofios sobre um substrato, comalto aproveitamento dos nanofios. A presente invenção se situa nos campos dananotecnologia, voltada para a fabricação de componentes eletrônicos.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Indeferimento

#9.2

13/06/2023

RPI 2736

Conhecimento de parecer técnico

#7.1

07/03/2023

RPI 2722

Publicação do pedido de patente

#3.1

25/06/2019

RPI 2529

Pedido de patente depositado

#2.1

12/06/2018

RPI 2475

Requerimento de pedido de patente

#2.10

Número de Protocolo '870170097648' em 13/12/2017 18:16 (WB)

02/01/2018

RPI 2452

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