Patente de Invenção FONTE BIPOLAR PULSADA EM ALTA FREQUÊNCIA PARA GERAÇÃO DE PLASMA de SCHOLTZ E FONTANA CONSULTORIA LTDA - ME — IPC H05H 1/46. Figura publicada pelo INPI na Revista da Propriedade Industrial.
Pedido arquivado: o exame técnico não foi requerido nos 36 meses seguintes ao depósito de 31/05/2017, prazo do art. 33 da LPI. A tecnologia está em domínio público no Brasil.
Fonte bipolar pulsada assimétrica, que tem com principal aplicação a geração do estado físico de plasma, construída pelo agrupamento de N módulos de potência unitários agrupados em cascata para formar braços de potência com (N+1) níveis, podendo atingir até dezenas de kV, conectados numa configuração ponte H, com defasamento TD ajustável entre cada bloco de modo a formar um defasamento total N.TD que possibilita obter pulsos de curta duração da ordem de nanosegundos. A configuração dos pulsos de tensão, envolvendo a intensidade, sequência, agrupamento, polaridade, frequência e largura de cada pulso podem ser ajustadas em tempo real.
Histórico de despachos
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
Arquivamento definitivo - Art. 33 da LPI
#11.1.1
01/12/2020
RPI 2604
Arquivamento - Art. 33 da LPI
#11.1
15/09/2020
RPI 2593
Publicação do pedido de patente
#3.1
18/12/2018
RPI 2502
Pedido de patente depositado
#2.1
19/09/2017
RPI 2437
Exigência - art. 21 da LPI
#2.5
29/08/2017
RPI 2434
Requerimento de pedido de patente
#2.10
Número de Protocolo '870170036817' em 31/05/2017 20:06 (WB)
