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Dado oficial do INPI

MÉTODO DE DENSIFICAÇÃO DE PLASMA

ExtintaPatente de Invenção

Dados do pedido

Patente de Invenção MÉTODO DE DENSIFICAÇÃO DE PLASMA de SCHOLTZ E FONTANA CONSULTORIA LTDA - ME — IPC H05H 1/02
Patente de Invenção MÉTODO DE DENSIFICAÇÃO DE PLASMA de SCHOLTZ E FONTANA CONSULTORIA LTDA - ME — IPC H05H 1/02. Figura publicada pelo INPI na Revista da Propriedade Industrial.

Número

102016006786

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

28/03/2016

Publicação

03/10/2017

Andamento no INPI

  1. Depósito28/03/16
  2. Publicação03/10/17
  3. Exame
  4. Deferimento03/01/23
  5. Concessão18/04/23
  6. Extinto29/07/25

Patente concedida em 18/04/2023 e depois extinta em 29/07/2025. A proteção terminou antes do prazo e a tecnologia está em domínio público no Brasil.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 29/07/2025. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

SCHOLTZ E FONTANA CONSULTORIA LTDA - ME

SC, BR

Inventores

J. S. (pessoa física)

BR

L. F. (pessoa física)

BR

Dados técnicos

Classificação IPC

Resumo técnico

RESUMOMÉTODO DE DENSIFICAÇÃO DE PLASMA O plasma é formado entre eletrodos a serem energizados a partir de uma fonte de energia elétrica e contém uma massa parcialmente ionizada tendo uma região de luminescência incluindo átomos neutros (AN), elétrons primários (EP), elétrons secundários (ES), e íons. O método compreende as etapas intercaladas de: acelerar os elétrons primários (EP) em direção a um dos ditos eletrodos (10) polarizado por um pulso curto, positivo, de alta voltagem, fazendo impactar elétrons primários (EP) contra o dito eletrodo (10) e deste ejetando elétrons secundários (ES); subsequentemente, acelerar os elétrons secundários (ES) em direção à região de luminescência, pela polarização do dito eletrodo (10) por um pulso de polarização negativa e de menor voltagem, colidindo os elétrons secundários com átomos neutros (AN) e produzindo íons positivos (IP) e elétrons derivados (ED); o pulso negativo deve ter um período suficiente para que os íons positivos (IP) da região luminescente possam ser acelerados na direção do eletrodo 10, de modo a atiningir a superfície do referido eletrodo; repetir as referidas etapas de modo a se obter um plasma em regime estacionário com desejado grau de ionização. O controle da intensidade e do período dos pulsos positivos e negativos permite controlar o grau de ionização do plasma e o volume da região luminescente.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Manutenção da Extinção - Art. 78 inciso IV da LPI

#24.10

Em virtude da extinção publicada na RPI 2832 de 15-04-2025 e considerando ausência de manifestação dentro dos prazos legais, informo que cabe ser mantida a extinção da patente e seus certificados, conforme o disposto no artigo 12, da resolução 113/2013.

29/07/2025

RPI 2847

Extinção para fins de restauração (art. 87)

#21.6

Extinta a patente, nos termos do artigo 86, da LPI, e artigo 14 da portaria 52/2023, referente ao não recolhimento da 8ª retribuição anual (Vide parecer).

15/04/2025

RPI 2832

Concessão da patente

#16.1

Prazo de Validade: 20 (vinte) anos contados a partir de 28/03/2016, observadas as condições legais

18/04/2023

RPI 2728

Deferimento

#9.1

03/01/2023

RPI 2713

Exigência preliminar

#6.21

23/08/2022

RPI 2694

8.7

15/06/2021

RPI 2632

Arquivamento por falta de pagamento

#8.6

Referente à 5ª anuidade.

06/04/2021

RPI 2622

Notificação de acesso ao patrimônio genético

#6.6.1

12/03/2019

RPI 2514

Publicação do pedido de patente

#3.1

03/10/2017

RPI 2439

Pedido de patente depositado

#2.1

21/06/2016

RPI 2372

Requerimento de pedido de patente

#2.10

Número de Protocolo 860160068491 em 28/03/2016 03:53(WB).

05/04/2016

RPI 2361

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