Pedido arquivado: o exame técnico não foi requerido nos 36 meses seguintes ao depósito de 02/02/2017, prazo do art. 33 da LPI. A tecnologia está em domínio público no Brasil.
MOLDE PARA SIMETRIA DE MAQUIAGEM DOS OLHOS caracterizado por um molde que configura uma máscara, esta dotada de torres laterais entre as quais, verificam-se alívios posicionados abaixo dos olhos, cujas arestas inferiores descrevem-se obliquas e separados por uma haste nasal, acima da qual verificam-se faixas divisoras de sobrancelhas.
Histórico de despachos
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
Arquivamento definitivo - Art. 33 da LPI
#11.1.1
21/07/2020
RPI 2585
Arquivamento - Art. 33 da LPI
#11.1
18/02/2020
RPI 2563
Publicação do pedido de patente
#3.1
21/08/2018
RPI 2485
Pedido de patente depositado
#2.1
12/06/2018
RPI 2475
Requerimento de pedido de patente
#2.10
Número de Protocolo '025170000001' em 02/02/2017 14:53 (ES)
