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Dado oficial do INPI

PINCEL DUPLO PARA CÍLIOS E TRAÇOS

ArquivadaPatente de Invenção

Dados do pedido

Patente de Invenção PINCEL DUPLO PARA CÍLIOS E TRAÇOS — IPC A45D 34/00
Patente de Invenção PINCEL DUPLO PARA CÍLIOS E TRAÇOS — IPC A45D 34/00. Figura publicada pelo INPI na Revista da Propriedade Industrial.

Número

102015024353

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

22/09/2015

Publicação

28/03/2017

Andamento no INPI

  1. Depósito22/09/15
  2. Publicação28/03/17
  3. Arquivado
  4. Deferimento
  5. Concessão
  6. Em vigor

Pedido arquivado: o exame técnico não foi requerido nos 36 meses seguintes ao depósito de 22/09/2015, prazo do art. 33 da LPI. A tecnologia está em domínio público no Brasil.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 02/01/2019. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

I. B. (pessoa física)

BR

Inventores

I. B. (pessoa física)

BR

Dados técnicos

Classificação IPC

Resumo técnico

PINCEL DUPLO PARA CÍLIOS E TRAÇOS. O Pincel Duplo para Cílios e Traços, que em apenas um elemento, conjuga as funções de uso para a máscara para cílios e delineador para os olhos, eliminando a necessidade de fabricação e compra de dois produtos distintos, proporcionando assim mais economia e praticidade. O dito pincel é constituído por uma ponta (2), como a dos delineadores de olhos e de cerdas (1 ), como as de máscaras para os cílios. Tanto a ponta (2), como as cerdas (1) podem ser fabricadas de diversos materiais e tamanhos, que melhor se adequem ao consumidor.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Arquivamento definitivo - Art. 33 da LPI

#11.1.1

02/01/2019

RPI 2504

Arquivamento - Art. 33 da LPI

#11.1

16/10/2018

RPI 2493

Publicação do pedido de patente

#3.1

28/03/2017

RPI 2412

Pedido de patente depositado

#2.1

03/01/2017

RPI 2400

Exigência - art. 21 da LPI

#2.5

13/09/2016

RPI 2384

Requerimento de pedido de patente

#2.10

Número de Protocolo 014150001278 em 22/09/2015 04:09(MG).

02/08/2016

RPI 2378

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