Dados do pedido
Número
102015003295Tipo
Depósito
Publicação
Pedido arquivado por falta de pagamento das anuidades (art. 86 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 02/05/2018. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes
JC KOREA CORP.
KR
Inventores
B. K. (pessoa física)
KR
H. K. (pessoa física)
KR
J. C. (pessoa física)
KR
J. P. (pessoa física)
KR
K. C. (pessoa física)
KR
Prioridades unionistas
KR
10-2014-0142786 · 21/10/2014
Resumo técnico
Uma composição para remoção de esmalte de unhas é divulgada. A composição para remoção de esmalte de unhas é aplicada a uma unha de modo a formar uma camada para remoção esmalte de unha, e, em seguida, um gel UV é aplicado à camada para remoção de esmalte de unha ou uma resina acrílica é aplicada à camada para a remoção do esmalte de unhas para estender a unha. Portanto, o gel UV ou a resina acrílica podem ser removidos de uma maneira simples, sem a utilização de uma ferramenta especial ou a necessidade de realizar uma operação especial. Além disso, o risco de danos para a unha pode ser bastante reduzido. Também é revelado um kit para unhas remoção de esmalte de unha incluindo a composição.
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
#8.11
Em virtude do arquivamento publicado na RPI 2453 de 09-01-2018 e considerando ausência de manifestação dentro dos prazos legais, informo que cabe ser mantido o arquivamento do pedido de patente, conforme o disposto no artigo 12, da resolução 113/2013.
02/05/2018
RPI 2469
#8.6
Referente à 3ª anuidade.
09/01/2018
RPI 2453
#3.1
12/12/2017
RPI 2449
#2.1
21/11/2017
RPI 2446
#2.10
Número de Protocolo '020150003604' em 13/02/2015 10:32 (RJ)
31/10/2017
RPI 2443
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