SISTEMA PARA DOPAGEM POR DIFUSÃO DE CAMADAS SEMICONDUTORAS NA SUPERFÍCIE DE LÂMINAS SEMICONDUTORAS FLUTUANTES A PARTIR DA VOLATILIZAÇÃO AUTORREGULADA DE COMPONENTES SEMICONDUTORES DA FONTE DE DOPAGEM

Classificação IPC

Resumo técnico

"Sistema para dopagem por difusão de camadas semi condutoras na superfície de lâminas semicondutoras flutuantes a partir da volatilização autorregulada de componentes semicondutores da fonte de dopagem" se refere a um sistema para dopagern baseado em difusão para obtenção de camadas sermicondutoras, dopadas positivamente ( p) ou negativamente ( N) , sobre lâminas sernicondutoras flutuantes a partir da volatilização autorregulada dos componentes da fonte de dopagem. A presente invenção trata do processo de funcionamento do dito sistema. O principal diferencial da invenção é o fato da lâmina semi condutora flutuar, durante o processo de funcionamento do sistema, evitando assim pontos de contato e inserção de defeitos estruturais. Urna outra característica relevante é a do sistema propiciar urna ampla flexibilidade em efetivamente controlar e realizar variações de todos os parâmetros envolvidos no processo, principalmente o controle da espessura da camada p ou N difundida, por meio do controle da temperatura e do tempo de difusão, e da dimensão da lâmina sernicondutora flutuante, que depende somente da dimensão do reator, que é onde a difusão ocorre.