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Dado oficial do INPI

DISPOSITIVO SEMICONDUTOR E MÉTODO DE FABRICAÇÃO DE UM DISPOSITIVO SEMICONDUTOR

ArquivadaPatente de Invenção

Dados do pedido

Número

102014016376

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

01/07/2014

Publicação

17/11/2015

Andamento no INPI

  1. Depósito01/07/14
  2. Publicação17/11/15
  3. Arquivado
  4. Deferimento
  5. Concessão
  6. Em vigor

Pedido arquivado: a exigência técnica do INPI não foi cumprida no prazo (art. 36 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 15/09/2020. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

GENERAL ELECTRIC COMPANY

US

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Inventores

A. B. (pessoa física)

US

P. L. (pessoa física)

US

Dados técnicos

Classificação IPC

Prioridades unionistas

US

13/934,004 · 02/07/2013

Resumo técnico

DISPOSITIVO SEMICONDUTOR E MÉTODO DE FABRICAÇÃO DE UM DISPOSITIVO SEMICONDUTOR. Trata-se de um dispositivo semicondutor que inclui uma camada de desvio disposta sobre um substrato. A camada de desvio tem uma superfície não plana que tem uma pluralidade de recursos de repetição orientados paralelos a um comprimento de um canal do dispositivo semicondutor. Adicionalmente, cada um dos recursos de repetição tem uma concentração de dopante maior do que um restante da camada de desvio.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Arquivamento - Art. 36 §1° da LPI

#11.2

15/09/2020

RPI 2593

Exigência preliminar

#6.21

14/04/2020

RPI 2571

Notificação de acesso ao patrimônio genético

#6.6.1

06/11/2018

RPI 2496

Publicação do pedido de patente

#3.1

17/11/2015

RPI 2341

Pedido de patente depositado

#2.1

18/11/2014

RPI 2289

Requerimento de pedido de patente

#2.10

Número de Protocolo 18140012674 em 01/07/2014 03:21(SP).

19/08/2014

RPI 2276

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