Patente de Invenção DEPOSIÇÃO DE VAPOR DE REVESTIMENTO DE IMERSÃO DE PLASMA DE ARCO DE BAIXA PRESSÃO E TRATAMENTO DE ÍONS. de VAPOR TECHNOLOGIES INC. — IPC C23C 14/35. Figura publicada pelo INPI na Revista da Propriedade Industrial.
Pedido arquivado: o exame técnico não foi requerido nos 36 meses seguintes ao depósito de 14/03/2014, prazo do art. 33 da LPI. A tecnologia está em domínio público no Brasil.
DEPOSIÇÃO DE VAPOR DE REVESTIMENTO DE IMERSÃO DE PLASMA DE ARCO DE BAIXA PRESSÃO E TRATAMENTO DE ÍONS Um sistema de revestimento inclui uma câmara de vácuo e um conjunto de revestimento. O conjunto de revestimento inclui uma fonte de vapor, um suporte de substrato, um ânodo remoto acoplado eletricamente ao alvo de cátodo, e um conjunto de câmara de cátodo. O conjunto de câmara de cátodo inclui um alvo de cátodo, um ânodo primário opcional e uma blindagem que isola o alvo de cátodo a partir da câmara de vácuo. A blindagem define uma abertura para transmissão de uma corrente de emissão de elétron de uma descarga de arco remoto a partir do alvo de , cátodo para o ânodo remoto que flui ao longo da dimensão longa face de alvo. Uma fonte de alimentação primária é conectada entre o alvo de cátodo e o ânodo primário enquanto uma fonte de alimentação secundária é conectada entre o alvo de cátodo e o ânodo remoto. Caracteristicamente, uma dimensão de ânodo remoto linear e uma dimensão curta de fonte de vapor são paralelas a uma dimensão em que o ponto de arco é dirigido ao longo do alvo de cátodo.
Histórico de despachos
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
Arquivamento definitivo - Art. 33 da LPI
#11.1.1
03/04/2018
RPI 2465
Arquivamento - Art. 33 da LPI
#11.1
23/01/2018
RPI 2455
Publicação do pedido de patente
#3.1
28/11/2017
RPI 2447
Pedido de patente depositado
#2.1
07/11/2017
RPI 2444
Exigência - art. 21 da LPI
#2.5
24/06/2014
RPI 2268
Requerimento de pedido de patente
#2.10
Número de Protocolo 20140010963 em 14/03/2014 04:50(RJ).
