Dados do pedido
Número
102012002561Tipo
Depósito
Publicação
Pedido arquivado por falta de pagamento das anuidades (art. 86 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 30/08/2016. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes
Vapor Technologies Inc.
US
Inventores
K. B. (pessoa física)
US
Classificação IPC
Prioridades unionistas
US
13/020,290 · 03/02/2011
Resumo técnico
FILTRO DE FONTE DE ARCO. Um filtro de fonte de arco é disposto entre uma cátodo de arco e um substrato em um sitema de deposição por arco a vácuo. O filtro inclui uma pluralidade de elementos de duto que cercam a fonte de arco. Os elementos do duto possuem dimensões espaciais suficientes para bloquear partículas. Além disso, os elementos do duto têm propriedades elétricas e magnéticas que são propícias para a transmissão de plasma através do filtro. Ao passar pelo filtro, o plasma de arco fortemente ionizado é essencialmente livrado de partículas que formam uma fonte de plasma para revestimentos reagidos bem como não reagidos caracterizados pela alta densidade e qualidade quase livre de defeito. O design permite a flexibilidade em termos de grau de filtração, comprimento da zona de revestimento, bem como escolha da fonte de arco.
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
#8.11
Em virtude do arquivamento publicado na RPI 2363 de 19-04-2016 e considerando ausência de manifestação dentro dos prazos legais, informo que cabe ser mantido o arquivamento do pedido de patente, conforme o disposto no artigo 12, da resolução 113/2013.
30/08/2016
RPI 2382
#8.6
Referente à 4ª anuidade.
19/04/2016
RPI 2363
#3.1
23/07/2013
RPI 2220
#2.1
26/12/2012
RPI 2190
#2.10
Número de Protocolo 20120009561 em 03/02/2012 04:22(RJ).
26/06/2012
RPI 2164
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