Concessão da patente
#16.1
20 (vinte) anos contados a partir de 31/05/2013, observadas as condições legais
20/04/2021
RPI 2624
Dados do pedido
Número
102013013566Tipo
Depósito
Publicação
Patente concedida em 20/04/2021 e em vigor até 31/05/2033. Até lá, ninguém pode fabricar, usar ou vender a invenção no Brasil sem autorização do titular.
Proteção válida até:31/05/2033
Última movimentação publicada pelo INPI: 20/04/2021. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes
FREESCALE SEMICONDUCTOR, INC
US
NXP USA, INC.
US
Inventores
K. H. (pessoa física)
US
M. M. (pessoa física)
US
P. P. (pessoa física)
US
T. S. (pessoa física)
US
Classificação IPC
Prioridades unionistas
US
13/485886 · 31/05/2012
Resumo técnico
MÉTODOS E ESTRUTURAS PARA REDUZIR EXPOSIÇÃO DE CALOR DE DISPOSITIVOS SEMICONDUTORES SENSÍVEIS TERMICAMENTE. Um dispositivo semicondutor compreende uma matriz de circuito integrado (IC) tendo um lado de topo e um lado de trás. O substrato de circuito inclui um circuito de fonte de calor, um circuito sensível ao calor, um substrato de embalagem juntamente com o lado de topo do substrato de circuito, e uma pluralidade de vias através de silício (TSVs) condutoras termicamente formadas a partir do lado de trás do substrato circuito para perto, mas não através do lado de topo do substrato de circuito.
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
#16.1
20 (vinte) anos contados a partir de 31/05/2013, observadas as condições legais
20/04/2021
RPI 2624
#9.1
30/03/2021
RPI 2621
#7.1
30/06/2020
RPI 2582
#6.21
14/01/2020
RPI 2558
#6.6.1
04/12/2018
RPI 2500
#25.1
10/10/2017
RPI 2440
#3.1
20/10/2015
RPI 2337
#2.1
26/08/2014
RPI 2277
#2.10
Número de Protocolo 20130047611 em 31/05/2013 04:29(RJ).
05/08/2014
RPI 2274
Do mesmo titular
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